[發(fā)明專利]光學(xué)器件和光學(xué)設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110040216.7
• 申請(qǐng)日: 2011-02-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102162923A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 輿石亮;大島宜浩;小野彰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號(hào): G02B27/00
• 分類號(hào): G02B27/00;G03B17/12;G03B19/12
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種光學(xué)器件，包括：

光學(xué)器件主體；

第一透明電極膜，沉積在光入射側(cè)；

第二透明電極膜，形成所述第二透明電極膜使得所述第一和第二透明電極膜彼此隔開(kāi)相對(duì)；以及

第一鐵電膜，至少沉積在所述第一透明電極膜和所述第二透明電極膜之間，

其中，所述第一鐵電膜響應(yīng)于通過(guò)所述第一透明電極膜和所述第二透明電極膜施加的驅(qū)動(dòng)電壓而振動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，

其中，所述第一鐵電膜和所述光學(xué)器件主體形成在所述第一透明電極膜和所述第二透明電極膜之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)器件，

其中，第三透明電極膜形成在所述第一透明電極膜和所述第二透明電極膜之間，

所述第一鐵電膜形成在所述第一透明電極膜和所述第三透明電極膜之間，以及

第二鐵電膜形成在所述第二透明電極膜和所述第三透明電極膜之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)器件，

其中，透明的柔性基底形成在所述第二透明電極膜的表面上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，

其中，所述光學(xué)器件主體形成在所述第二透明電極膜的表面上。

6.一種光學(xué)設(shè)備，包括：

光學(xué)器件主體；

第一透明電極膜，沉積在光入射側(cè)；

第二透明電極膜，形成所述第二透明電極膜使得所述第一和第二透明電極膜彼此隔開(kāi)相對(duì)；

第一鐵電膜，至少沉積在所述第一透明電極膜和所述第二透明電極膜之間，所述第一鐵電膜響應(yīng)于通過(guò)所述第一透明電極膜和所述第二透明電極膜施加的驅(qū)動(dòng)電壓而振動(dòng)；以及

電源，產(chǎn)生所述驅(qū)動(dòng)電壓。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的所述光學(xué)設(shè)備，

其中，當(dāng)粘附至所述第一透明電極膜的表面上的灰塵具有大比重時(shí)，由所述電源產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)電壓具有5000Hz以下的頻率，而當(dāng)粘附至所述第一透明電極膜的表面上的灰塵具有小比重時(shí)，由所述電源產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)電壓具有5000Hz以上的頻率。