[發(fā)明專利]薄膜沉積設(shè)備、有機(jī)發(fā)光顯示裝置及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110035610.1
• 申請(qǐng)日: 2011-02-01
• 公開（公告）號(hào): CN102169968A
• 公開（公告）日: 2011-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金貞蓮;成沄澈
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;李娜娜

本申請(qǐng)要求于2010年2月1日提交到韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的第10-2010-0009160號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的權(quán)益，其公開通過引用包含于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的一方面涉及一種薄膜沉積設(shè)備、一種通過使用該薄膜沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法、一種通過使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。更具體地講，本發(fā)明的一方面涉及一種適合于以大規(guī)模制造大尺寸顯示裝置并可以提高制造產(chǎn)率的薄膜沉積設(shè)備、一種使用該薄膜沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法、一種通過該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。

背景技術(shù)

與其他顯示裝置相比，有機(jī)發(fā)光顯示裝置視角較大、對(duì)比度特性較好并且響應(yīng)速度較快，因此有機(jī)發(fā)光顯示裝置作為下一代顯示裝置而備受矚目。

有機(jī)發(fā)光顯示裝置通常具有堆疊結(jié)構(gòu)，所述堆疊結(jié)構(gòu)包括陽極、陰極及位于陽極和陰極之間的發(fā)射層。當(dāng)分別從陽極和陰極注入的空穴和電子在發(fā)射層中復(fù)合并由此發(fā)光時(shí)，所述裝置顯示彩色圖像。然而，難以以這種結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)高發(fā)光效率，因此，可選地在發(fā)射層和每個(gè)電極之間另外設(shè)置包括電子注入層、電子傳輸層、空穴傳輸層或空穴注入層等的中間層。

此外，實(shí)踐上很難在諸如發(fā)射層和中間層的有機(jī)薄膜中形成精細(xì)的圖案，并且紅色發(fā)光效率、綠色發(fā)光效率和藍(lán)色發(fā)光效率根據(jù)有機(jī)薄膜而改變。出于這些原因，通過利用傳統(tǒng)的薄膜沉積設(shè)備在諸如5G或更大尺寸的母玻璃的大基底上形成有機(jī)薄膜圖案是不容易的，因此難以制造驅(qū)動(dòng)電壓、電流密度、亮度、色純度、發(fā)光效率和壽命特性等令人滿意的大的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。因此，在這方面需要改善。

有機(jī)發(fā)光顯示裝置包括中間層，所述中間層包括設(shè)置在彼此相對(duì)布置的第一電極和第二電極之間的發(fā)射層。中間層、第一電極、第二電極可以使用各種方法形成，所述方法之一為沉積方法。當(dāng)利用沉積方法來制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置時(shí)，為了形成具有期望圖案的薄膜，具有與待形成的薄膜的圖案相同的圖案的精細(xì)金屬掩模(FMM)被設(shè)置為緊密地接觸基底，并且在FMM上方沉積薄膜材料。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的各方面提供一種可以容易地制造的薄膜沉積設(shè)備、一種通過使用該薄膜沉積設(shè)備來制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法、一種通過使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置，該薄膜沉積設(shè)備可以簡(jiǎn)單地用于大規(guī)模地制造大尺寸顯示裝置，該薄膜沉積設(shè)備改善了制造產(chǎn)率和沉積效率。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種薄膜沉積設(shè)備，該薄膜沉積設(shè)備用于在基底上形成薄膜，所述設(shè)備包括：沉積源，排放沉積材料；沉積源噴嘴單元，設(shè)置在沉積源的一側(cè)處，并包括沿第一方向布置的多個(gè)沉積源噴嘴；圖案化縫隙片，設(shè)置為與沉積源噴嘴單元相對(duì)，并包括在圖案化縫隙片的一端處的共用沉積區(qū)域和在另一端處的沿第一方向的多個(gè)圖案化縫隙，其中，所述多個(gè)圖案化縫隙中的每個(gè)圖案化縫隙包括長(zhǎng)度不同的多個(gè)圖案化子縫隙；障礙板組件，沿第一方向設(shè)置在沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間，并包括將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的沉積空間劃分為多個(gè)子沉積空間的多個(gè)障礙板，其中，所述薄膜沉積設(shè)備與基底分開預(yù)定的距離，所述薄膜沉積設(shè)備和基底能夠相對(duì)于彼此移動(dòng)。

所述多個(gè)圖案化縫隙中的每個(gè)圖案化縫隙可以包括：第一圖案化子縫隙，具有第一長(zhǎng)度；第二圖案化子縫隙，具有與第一長(zhǎng)度不同的第二長(zhǎng)度；第三圖案化子縫隙，具有與第一長(zhǎng)度和第二長(zhǎng)度不同的第三長(zhǎng)度。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，第一圖案化子縫隙、第二圖案化子縫隙、第三圖案化子縫隙可以交替并重復(fù)地形成在圖案化縫隙片中。

第一圖案化子縫隙可以與基底的紅子像素區(qū)域?qū)?yīng)，第二圖案化子縫隙可以與基底的綠子像素區(qū)域?qū)?yīng)，第三圖案化子縫隙可以與基底的藍(lán)子像素區(qū)域?qū)?yīng)。第一長(zhǎng)度可以比第二長(zhǎng)度長(zhǎng)，第二長(zhǎng)度可以比第三長(zhǎng)度長(zhǎng)。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，可以根據(jù)第一圖案化子縫隙的長(zhǎng)度、第二圖案化子縫隙的長(zhǎng)度、第三圖案化子縫隙的長(zhǎng)度來控制在基底的各區(qū)域上沉積的沉積材料的量。

從沉積源排放的沉積材料可以沉積在基底上的紅子像素區(qū)域、綠子像素區(qū)域、藍(lán)子像素區(qū)域上。

沉積在紅子像素區(qū)域上的沉積材料可以比沉積在綠子像素區(qū)域上的沉積材料厚，沉積在綠子像素區(qū)域上的沉積材料可以比沉積在藍(lán)子像素區(qū)域上的沉積材料厚。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，每個(gè)障礙板可以沿與第一方向基本垂直的第二方向延伸，以將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的沉積空間劃分為所述多個(gè)子沉積空間。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述多個(gè)障礙板可以按相等的間距布置。

障礙板組件可以包括第一障礙板組件和第二障礙板組件，第一障礙板組件包括多個(gè)第一障礙板，第二障礙板組件包括多個(gè)第二障礙板。