[發(fā)明專利]減壓干燥方法和減壓干燥裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110035363.5
• 申請日: 2011-01-31
• 公開（公告）號: CN102193345A
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發(fā)明（設計）人: 麻生豐;巖永和也
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: G03F7/38
• 分類號: G03F7/38;H01L21/00
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種減壓干燥方法，將形成有涂覆膜的被處理基板放置在減壓環(huán)境下，使所述涂覆膜中的溶劑蒸發(fā)、對所述涂覆膜實施干燥處理，該減壓干燥方法的特征在于：

在將形成有涂覆膜的所述基板收納在腔室內，使所述腔室內成為減壓環(huán)境的工序中，包括：

以第一減壓速度對所述腔室內的壓力進行減壓，使所述腔室內的壓力成為比所述溶劑的蒸汽壓高，并至少不會使所述溶劑突然沸騰蒸發(fā)的第一壓力值的步驟；和

從所述第一壓力值到至少所述溶劑的蒸汽壓，以比所述第一減壓速度低的第二減壓速度緩慢減壓的步驟。

2.如權利要求1所述的涂覆膜形成方法，其特征在于：

在使所述腔室內的壓力成為所述溶劑的蒸汽壓的步驟之后，還實施以所述第二減壓速度減壓，成為比所述溶劑的蒸汽壓低的第二壓力值的步驟。

3.一種減壓干燥裝置，將形成有涂覆膜的被處理基板放置在減壓環(huán)境下，使所述涂覆膜中的溶劑蒸發(fā)，實施所述涂覆膜的干燥處理，該減壓干燥裝置的特征在于，包括：

收納形成有涂覆膜的所述基板的腔室；對所述腔室內進行排氣的排氣單元；調整來自于所述腔室的排氣量的排氣量調整單元；檢測所述腔室內的壓力的壓力檢測單元；和基于所述壓力檢測單元的檢測結果，控制所述排氣量調整單元的排氣調整量的控制單元，

所述控制單元控制所述排氣量調整單元，以利用第一減壓速度將所述腔室內的壓力減壓到比所述溶劑的蒸汽壓高，并至少所述溶劑不會突然沸騰蒸發(fā)的第一壓力值，

所述控制單元控制所述排氣量調整單元，以利用比所述第一減壓速度低的第二減壓速度從所述第一壓力值緩慢減壓到至少所述溶劑的蒸汽壓。

4.如權利要求3所述的干燥減壓裝置，其特征在于：

所述控制單元控制所述排氣量調整單元，以利用所述第二減壓速度將所述腔室內的壓力緩慢減壓到比所述溶劑的蒸汽壓低的第二壓力值。