[發明專利]襯底的拋光裝置及其拋光的襯底

有效

• 申請號: 201110034139.4
• 申請日: 2011-01-31
• 公開（公告）號: CN102172885A
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發明（設計）人: 王冰;李海淼;周鐵軍;劉建志;李雪峰;劉文森
• 申請（專利權）人: 北京通美晶體技術有限公司
• 主分類號: B24B39/06
• 分類號: B24B39/06;H01L21/02;H01L29/06
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種襯底的拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置包括：

分別由電動機驅動旋轉的中心齒圈(3)和外齒圈(4)；

在中心齒圈(3)帶動下旋轉并用于對襯底(7)施加壓力(6)的環形上盤(1)；

由電動機驅動旋轉并用于承載襯底(7)的環形下盤(2)；

粘貼到下盤(2)上表面的下盤拋光布(8-2)，用于對襯底(7)進行拋光；

平放在貼有下盤拋光布(8-2)的下盤(2)上表面的一個或多個圓形游星輪(5)，所述游星輪(5)在中心齒圈(3)和外齒圈(4)的帶動下旋轉，具有用于放置襯底(7)的一個或多個孔；以及

布置在下盤拋光布(8-2)與下盤(2)之間具有預定均勻厚度的第一環形背墊(9)，所述第一環形背墊(9)的內沿半徑大于所述下盤(2)的內沿半徑，所述第一環形背墊(9)的外沿半徑小于所述下盤(2)的外沿半徑，用于使襯底(7)中心和邊緣的化學機械拋光作用達到平衡。

2.根據權利要求1所述的拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置進一步包括：粘貼到上盤(1)下表面的上盤拋光布(8-1)，所述上盤拋光布(8-1)和下盤拋光布(8-2)一起用于對襯底進行拋光。

3.一種襯底的拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置包括：

分別由電動機驅動旋轉的中心齒圈(3)和外齒圈(4)；

在中心齒圈(3)帶動下旋轉并用于對襯底(7)施加壓力(6)的環形上盤(1)；

由電動機驅動旋轉并用于承載襯底(7)的環形下盤(2)；

粘貼到上盤(1)下表面的上盤拋光布(8-1)和粘貼到下盤(2)上表面的下盤拋光布(8-2)，所述上盤拋光布(8-1)和下盤拋光布(8-2)一起用于對襯底進行拋光；

平放在貼有下盤拋光布(8-2)的下盤(2)上表面的一個或多個圓形游星輪(5)，所述游星輪(5)在中心齒圈(3)和外齒圈(4)的帶動下旋轉，具有用于放置襯底(7)的一個或多個孔；以及

布置在上盤拋光布(8-1)與上盤(1)之間具有預定均勻厚度的第二環形背墊，所述第二環形背墊的內沿半徑大于所述上盤(1)的內沿半徑，所述第二環形背墊的外沿半徑小于所述上盤(1)的外沿半徑，用于使襯底(7)中心和邊緣的化學機械拋光作用達到平衡。

4.根據權利要求3所述的拋光裝置，其特征在于，所述拋光裝置進一步包括：

布置在下盤拋光布(8-2)與下盤(2)之間具有預定均勻厚度的第一環形背墊(9)，所述第一環形背墊(9)的內沿半徑大于所述下盤(2)的內沿半徑，所述第一環形背墊(9)的外沿半徑小于所述下盤(2)的外沿半徑，

所述第一環形背墊(9)和所述第二環形背墊一起用于使襯底(7)中心和邊緣的化學機械拋光作用達到平衡。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的拋光裝置，其特征在于，所述第一環形背墊(9)和/或所述第二環形背墊為聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚苯乙烯以及其他樹脂制成的薄膜之一。

6.根據權利要求1-4中任一項所述的拋光裝置，其特征在于，所述上盤(1)施加的壓力(6)為0.1-0.6公斤/平方厘米；所述下盤(2)逆時針旋轉，轉速為30-60轉/分鐘；所述中心齒圈(3)和上盤(1)順時針旋轉，轉速為10-15轉/分鐘；所述外齒圈(4)逆時針旋轉，轉速為25-30轉/分鐘；所述襯底(7)的直徑為3英寸，所述第一環形背墊(9)和/或所述第二環形背墊的厚度為40-130um，所述第一環形背墊(9)的外沿半徑比所述下盤(2)外沿半徑小2-5mm，所述第一環形背墊(9)的內沿半徑比所述下盤(2)內沿半徑大2-5mm；所述第二環形背墊的外沿半徑比所述上盤(1)外沿半徑小2-5mm，所述第二環形背墊的內沿半徑比所述上盤(1)內沿半徑大2-5mm。

7.根據權利要求6所述的拋光裝置，其特征在于，所述第一環形背墊(9)的厚度為90-110um，所述第一環形背墊(9)的外沿半徑比所述下盤(2)外沿半徑小3-4mm，所述第一環形背墊(9)的內沿半徑比所述下盤(2)內沿半徑大3-4mm；所述第二環形背墊的厚度為90-110um，所述第二環形背墊的外沿半徑比所述上盤(1)外沿半徑小3-4mm，所述第二環形背墊的內沿半徑比所述上盤(1)內沿半徑大3-4mm。