[發明專利]大動態范圍點源雜光透射系數測量裝置無效
| 申請號: | 201110031444.8 | 申請日: | 2011-01-28 |
| 公開(公告)號: | CN102175431A | 公開(公告)日: | 2011-09-07 |
| 發明(設計)人: | 王治樂;王付剛;趙明;龔仲強 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 動態 范圍 點源雜光 透射系數 測量 裝置 | ||
1.大動態范圍點源雜光透射系數測量裝置,其特征在于它包括太陽模擬器(1)、光路組件、水平轉臺(6)和探測器;水平轉臺(6)上安裝有待測光學系統(5),所述的水平轉臺(6)用于控制待測光學系統(5)在水平面內旋轉;光路組件包括孔徑光闌(2)、折軸反射鏡(3)和大口徑平行光管(4);太陽模擬器(1)發出的光線經孔徑光闌(2)投射在折軸反射鏡(3)上,經折軸反射鏡(3)反射后投射到大口徑平行光管(4)上,大口徑平行光管(4)的出射光束為大口徑平行光,所述的大口徑平行光投射在待測光學系統(5)的入瞳口徑上;探測器分為前部探測器(8)和后部探測器(7),所述前部探測器(8)和后部探測器(7)分別安裝在待測光學系統(5)的受光面上和背光面上,探測器用來探測待測光學系統(5)前后輻射照度。
2.根據權利要求1所述的大動態范圍點源雜光透射系數測量裝置,其特征在于所述太陽模擬器(1)由高壓短弧氙燈(1.1)和橢球反射罩(1.2)組成;高壓短弧氙燈(1.1)放置在橢球反射罩(1.2)的焦點上。
3.根據權利要求2所述的大動態范圍點源雜光透射系數測量裝置,其特征在于高壓短弧氙燈(1.1)為1000kw功率、色溫約為6000k的高壓短弧氙燈。
4.根據權利要求1、2或3所述的大動態范圍點源雜光透射系數測量裝置,其特征在于所述的水平轉臺(6)采用步進電機控制旋轉。
5.根據權利要求4所述的大動態范圍點源雜光透射系數測量裝置,其特征在于前部探測器(8)為可見光照度計,其量程為0.01lx~999900lx。
6.根據權利要求4所述的大動態范圍點源雜光透射系數測量裝置,其特征在于后部探測器(7)為微光照度計,其量程為10-6lx~0.2lx。
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