[發(fā)明專利]鈦基鎳扣種板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110023368.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-01-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102140658A | 公開(公告)日: | 2011-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 仇文東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 仇文東 |
| 主分類號(hào): | C25C7/02 | 分類號(hào): | C25C7/02;C25C1/08 |
| 代理公司: | 寶雞市新發(fā)明專利事務(wù)所 61106 | 代理人: | 李鳳岐;宋秀珍 |
| 地址: | 721008 陜*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鈦基鎳扣種板 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于電解鎳生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種鈦基鎳扣種板。
背景技術(shù)
鈦基鎳扣種板是電解法生產(chǎn)鎳扣的關(guān)鍵陰極板,廣泛應(yīng)用于冶金電解行業(yè)的濕法生產(chǎn)。目前使用的鈦基鎳扣種板其生長(zhǎng)柱直接固定在鈦基板上,且其橡膠絕緣層通過粘結(jié)劑附著在鈦基板上,易出現(xiàn)脫落、氣泡、分層等現(xiàn)象,導(dǎo)致橡膠絕緣層與鈦基板及生長(zhǎng)柱結(jié)合不緊密,使用過程中電解液易侵入鈦基板與生長(zhǎng)柱的固定連接間隙產(chǎn)生腐蝕,導(dǎo)致鈦基板與生長(zhǎng)柱的固定連接失效,造成生長(zhǎng)柱脫落,種板報(bào)廢。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題:提供一種鈦基鎳扣種板,通過改變生長(zhǎng)柱在鈦基板上的固定連接方式,以及橡膠絕緣層的附著方式,提高鈦基板與生長(zhǎng)柱連接的可靠性,延長(zhǎng)種板的使用壽命。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案:一種鈦基鎳扣種板,具有鈦基板,所述鈦基板上均布通孔,通孔上固定有導(dǎo)電柱,且導(dǎo)電柱等長(zhǎng)延伸至鈦基板的兩側(cè),導(dǎo)電柱的兩端固定有生長(zhǎng)柱;所述鈦基板的表面涂覆絕緣層。
所述導(dǎo)電柱通過過盈配合固定在通孔上。
所述生長(zhǎng)柱呈環(huán)狀結(jié)構(gòu),套裝并焊接固定在導(dǎo)電柱的端頭上。
所述鈦基板的表面及生長(zhǎng)柱的側(cè)壁采用硫化床工藝涂覆有硅橡膠絕緣層。
所述絕緣層的厚度為1.5-2.5mm。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn):
1、本發(fā)明改變了生長(zhǎng)柱在鈦基板上的固定連接方式,完全克服了生長(zhǎng)柱腐蝕后易脫落的缺陷;
2、本發(fā)明改變橡膠絕緣層的附著方式,使橡膠絕緣層與鈦基板及生長(zhǎng)柱結(jié)合更緊密,使用過程中電解液難以侵入鈦基板與生長(zhǎng)柱的固定連接間隙,進(jìn)一步提高鈦基板與生長(zhǎng)柱連接的可靠性,延長(zhǎng)種板的使用壽命。
3、本發(fā)明采用硫化床工藝涂覆絕緣層,不但降低了絕緣層厚度,又提高了工效,降低了生產(chǎn)成本。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖1描述本發(fā)明的一種實(shí)施例。
一種鈦基鎳扣種板,具有鈦基板1,鈦基板1最上端設(shè)有耳板4,所述鈦基板1上均布通孔5,導(dǎo)電柱6通過過盈配合固定在通孔5上,且導(dǎo)電柱6等長(zhǎng)延伸至鈦基板1的兩側(cè)。生長(zhǎng)柱2呈環(huán)狀結(jié)構(gòu),套裝并焊接固定在導(dǎo)電柱6的端頭上。所述鈦基板1的表面及生長(zhǎng)柱2的側(cè)壁采用硫化床工藝涂覆有硅橡膠絕緣層3,絕緣層3的厚度為1.5-2.5mm。
絕緣層3使鈦基板1與外部隔絕,同時(shí)生長(zhǎng)柱2及導(dǎo)電柱6的外端面露出并且導(dǎo)電性能良好。使用時(shí),將本發(fā)明放入電解液內(nèi),鎳分子在電流的作用下吸附到生長(zhǎng)柱2及導(dǎo)電柱6外露的外端面上,當(dāng)吸附到一定厚度后,就生?產(chǎn)出所要求的“鎳扣”,將“鎳扣”剝落后即可得到鎳扣成品。
以上所述僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施方式,故凡依本發(fā)明專利申請(qǐng)范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾,均包括于本發(fā)明專利申請(qǐng)范圍內(nèi)。
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