[發(fā)明專利]測定方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110022404.7 | 申請日: | 2011-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN102183297A | 公開(公告)日: | 2011-09-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 富田公平;高松佳央;高市隆一郎;中宗憲一;長谷部洋治 | 申請(專利權)人: | 歐姆龍株式會社 |
| 主分類號: | G01H13/00 | 分類號: | G01H13/00 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權代理有限公司 72003 | 代理人: | 浦柏明;徐恕 |
| 地址: | 日本京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測定 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及用于評價對象物的潤濕性的測定方法。
背景技術
例如,在對高分子薄膜或樹脂涂敷粘接劑、涂裝劑、涂料等的工序中,進行用于提高其表面(界面)的“潤濕性”的預處理。一般,這樣的處理被稱作“表面改性處理”等。該表面改性處理例如通過特定環(huán)境的等離子體處理或電暈處理等來實現(xiàn)。
然而,從質量管理方面來看,重要的是,評價這樣的表面改性處理將潤濕性改善了多少,并根據(jù)該評價結果,適宜地修改相關聯(lián)的工序的參數(shù)(設定值)。
過去,作為評價這樣的潤濕性的方法,采用了稱作液滴法的計測方法。在該液滴法中,在對象物的表面滴下規(guī)定量的液體(典型的為純凈水),并測定該液滴的切線和對象物表面之間的角度(也稱為“接觸角”或“可濕角”)。該測定出的接觸角與滴下的液體的表面張力的大小相關,該接觸角的大小表示對象物的潤濕性。
例如,專利文獻1(日本實用新型注冊第3150529號公報)公開了用于利用這樣的液滴法的原理來測定接觸角的接觸角測定裝置。
專利文獻:
專利文獻1:日本實用新型注冊第3150529號公報。
在利用上述專利文獻1所公開的液滴法的接觸角測定裝置中,不能在線評價潤濕性。即,在液滴法中,由于需要對對象物滴下液體,因此原理上是破壞性檢查。因此,只能對線上流動的對象物進行抽樣檢查,不能對所有對象物進行檢查。
另外,在液滴法中,由于測定環(huán)境(尤其振動)會對測定結果有大影響,因此需要準備滿足用于設置測定裝置的規(guī)定條件的環(huán)境。而且,在液滴法中,存在原理上難以實現(xiàn)小型化的問題、無法提高接觸角在相對小的范圍(即,潤濕性高的狀態(tài))內時的測定精度的問題。
發(fā)明內容
因此,本發(fā)明是為了解決這些問題而形成的,其目的在于提供一種能夠在高速且不破壞的前提下評價對象物表面的潤濕性的測定方法。
本發(fā)明一技術方案的測定方法包括:對對象物照射紫外線的工序;對照射了紫外線的上述對象物的熒光強度進行測定的工序;按照根據(jù)所測定的熒光強度預先取得的對應關系,輸出用于表示上述對象物的表面的潤濕性的值的工序。
優(yōu)選地,輸出用于表示上述對象物的表面的潤濕性的值的工序包括:根據(jù)預先取得的對應關系,計算出與測定出的熒光強度相對應的接觸角的工序;輸出所計算出的接觸角的工序。
更優(yōu)選地,預先取得的對應關系是按照對象物的種類取得的。優(yōu)選地,本測定方法還包括對對象物進行表面改性處理的工序,輸出用于表示上述對象物的表面的潤濕性的值的工序包括:基于在進行表面改性處理前檢測在對象物上產(chǎn)生的熒光所得到的結果與在進行表面改性處理后檢測在對象物上產(chǎn)生的熒光所得到的結果之差,計算出用于表示對象物表面的潤濕性的值的工序。
更優(yōu)選地,表面改性處理包括在對象物的表面上產(chǎn)生羧基和羰基中的至少一種官能團的處理。
本發(fā)明的另一技術方案的測定方法包括:對對象物照射紫外線的工序;對照射了紫外線的對象物的熒光強度進行測定的工序;輸出所測定的熒光強度來作為用于表示上述對象物的表面的潤濕性的值的工序。
根據(jù)本發(fā)明的技術方案,能夠高速且非破壞地評價對象物表面的潤濕性。
附圖說明
圖1是用于說明本發(fā)明實施方式的測定原理的示意圖。
圖2是用于等離子體處理的裝置的示意圖。
圖3是表示就等離子體處理的實驗結果進行繪制而得的圖表的圖。
圖4A~4C是用于說明液滴法中的接觸角的圖。
圖5是包括電暈處理裝置的涂覆工序(coating?process)的示意圖。
圖6是本發(fā)明實施方式的測定裝置的示意性的外觀圖。
圖7是表示本發(fā)明實施方式的測定裝置的光學結構的示意圖。
圖8是表示本發(fā)明實施方式的測定裝置的電性結構的示意圖。
圖9是表示本發(fā)明實施方式的第一變形例的測定裝置的電性結構的示意圖。
圖10是表示本發(fā)明實施方式的第二變形例的測定裝置的電性結構的示意圖。
圖11是表示本發(fā)明實施方式的第三變形例的測定裝置的光學結構的示意圖。
圖12是表示本發(fā)明實施方式的第四變形例的測定裝置的光學結構的示意圖。
圖13是表示圖12所示的紫外線燈(金鹵燈:metal?halide?lamp)的發(fā)光光譜的一例的圖。
圖14是表示圖12所示的波長濾波器的特性的一例的圖。
圖15是表示本發(fā)明實施方式的測定裝置的控制結構的示意圖。
圖16是表示將圖3所示的實驗結果繪制成接觸角和熒光強度之間的關系的圖表的圖。
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