[發(fā)明專利]具有硬質(zhì)涂層的被覆件及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110020359.1 | 申請日: | 2011-01-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102586732A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;彭立全 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/06 | 分類號(hào): | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 硬質(zhì) 涂層 被覆 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種具有硬質(zhì)涂層的被覆件及該被覆件的制備方法。
背景技術(shù)
高切削速度、高進(jìn)給速度、高可靠性、高精度和長壽命是目前刀具的發(fā)展方向,而不用或少用冷卻液的干式切削技術(shù),由于效率高,對環(huán)境污染小,正逐步成為切削技術(shù)發(fā)展的主流。但是這些技術(shù)對刀具涂層的性能提出了更高的要求,尤其是長時(shí)間的干式切削將導(dǎo)致刀具與被切削件接觸溫度迅速升至600-800℃以上,這些苛刻的條件要求涂層同時(shí)具有高硬度、低摩擦系數(shù)及優(yōu)異的高溫抗氧化性能。目前商業(yè)化較為成功的刀具涂層是TiAlN涂層,該涂層具有較好的高溫抗氧化性能,能較大程度提高刀具表面硬度和耐磨性能。但是,普通的TiAlN涂層的HV硬度難以超過30GPa,抗氧化溫度為800℃以下,已經(jīng)不能很好的滿足某些較高硬度材料的切削加工。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種具有具有硬質(zhì)涂層的被覆件,該被覆件具有較高硬度、耐磨損及優(yōu)良的高溫抗氧化性能。
另外,還有必要提供一種上述被覆件的制備方法。
一種具有硬質(zhì)涂層的被覆件,包括硬質(zhì)基體及形成于該基體上的結(jié)合層,該被覆件還包括形成于該結(jié)合層上的納米硬質(zhì)涂層,該納米硬質(zhì)涂層包括多層TiAlN層和多層SiN層,所述TiAlN層和SiN層交替堆疊,該納米硬質(zhì)涂層經(jīng)交替沉積所述TiAlN層和SiN層后進(jìn)行氮化熱處理制得。
一種具有硬質(zhì)涂層的被覆件的制備方法,包括以下步驟:
提供硬質(zhì)基體;
提供一磁控濺射設(shè)備,將該硬質(zhì)基體放入該磁控濺射設(shè)備的轉(zhuǎn)架上,在該磁控濺射設(shè)備的真空室內(nèi)相對設(shè)置鈦鋁合金靶及硅靶;
開啟鈦鋁合金靶,在硬質(zhì)基體上濺射一結(jié)合層;
同時(shí)開啟鈦鋁合金靶和硅靶,以氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體,在結(jié)合層上交替濺射多層TiAlN層和多層SiN層,以形成納米硬質(zhì)涂層,該TiAlN層和該SiN層交替堆疊;
在氮?dú)鈿夥障聦υ摷{米硬質(zhì)涂層進(jìn)行氮化熱處理。
本發(fā)明的具有硬質(zhì)涂層的被覆件包括納米硬質(zhì)涂層,該交替堆疊經(jīng)交替沉積多層TiAlN層和多層SiN層后進(jìn)行氮化熱處理制得。由于SiN層自身具有很高的硬度和耐磨性能,加之交替堆疊的TiAlN層和SiN層之間存在多晶超晶格硬化效應(yīng),使得納米硬質(zhì)涂層整體具有較高的硬度。而且,該納米硬質(zhì)涂層經(jīng)過氮化熱處理后,將沉積過程中沒來得及反應(yīng)的金屬粒子進(jìn)一步氮化,進(jìn)一步提高了涂層的整體硬度和耐磨性能。
附圖說明
圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的被覆件的剖視示意圖。
圖2為本發(fā)明較佳實(shí)施例的被覆件的制備方法中所用磁控濺射設(shè)備示意圖。
主要元件符號(hào)說明
被覆件??????????????10
硬質(zhì)基體????????????20
結(jié)合層??????????????30
納米硬質(zhì)涂層????????40
TiAlN層?????????????42
SiN層???????????????44
磁控濺射設(shè)備????????1
真空室??????????????2
真空泵????????????3
轉(zhuǎn)架??????????????4
鈦鋁合金靶????????5
硅靶??????????????6
氣源通道??????????7
具體實(shí)施方式
請參閱圖1,本發(fā)明較佳實(shí)施例具有硬質(zhì)涂層的被覆件10包括硬質(zhì)基體20、形成于硬質(zhì)基體20上的結(jié)合層30、形成于結(jié)合層30上的納米硬質(zhì)涂層40。
該硬質(zhì)基體20的材質(zhì)可以為高速鋼、硬質(zhì)合金、陶瓷、不銹鋼、鎂合金及鋁合金等。
該結(jié)合層30為一鈦鋁合金層,該結(jié)合層30中鈦原子與鋁原子個(gè)數(shù)比大約為1∶1。該結(jié)合層30的厚度可為0.05~0.2μm,優(yōu)選為0.1μm,其用于提高納米硬質(zhì)涂層40與硬質(zhì)基體20之間的結(jié)合力。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





