[發明專利]陣列基板及其制造方法和液晶顯示器

有效

• 申請號: 201110020250.8
• 申請日: 2011-01-18
• 公開（公告）號: CN102135691A
• 公開（公告）日: 2011-07-27
• 發明（設計）人: 黃煒赟;高永益;玄明花
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

1.一種陣列基板，包括襯底基板，所述襯底基板的像素區域中形成有橫縱交叉圍設形成多個像素單元的數據線和柵線，每個像素單元中包括開關元件、像素電極和公共電極，所述公共電極為具有狹縫且布設在像素區域中的整塊圖案，其特征在于：

所述像素區域中還形成有公共電極線，所述公共電極線與所述公共電極連通。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于：

所述公共電極線與所述數據線同層設置且相互平行，所述公共電極線通過接觸過孔與所述公共電極連通。

3.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于：

所述公共電極線與所述柵線同層設置且相互平行，所述公共電極線通過接觸過孔與所述公共電極連通。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于：

所述公共電極線包括第一公共電極線和第二公共電極線，所述第一公共電極線與所述數據線同層設置且相互平行，所述第二公共電極線與所述柵線同層設置且相互平行，所述第一公共電極線和第二公共電極線分別通過接觸過孔與所述公共電極連通。

5.根據權利要求1～4任一所述的陣列基板，其特征在于：所述公共電極線的材料為金屬或金屬氧化物。

6.根據權利要求1～4任一所述的陣列基板，其特征在于：

所述像素電極的行數或列數為所述公共電極線數量的倍數，所述公共電極線均勻且間隔地分布于所述像素區域中。

7.一種陣列基板的制造方法，包括在襯底基板的像素區域中形成柵線、開關元件、數據線、像素電極和公共電極的流程，所述公共電極為具有狹縫且布設在像素區域中的整塊圖案，其特征在于，還包括：

在所述像素區域中，與所述柵線和/或數據線同層形成公共電極線的圖案，所述公共電極線與所述柵線和/或數據線相互平行；

連通所述公共電極和公共電極線。

8.根據權利要求7所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，在襯底基板的像素區域中形成柵線、開關元件、數據線、像素電極、公共電極和公共電極線的流程包括：

在襯底基板上通過構圖工藝形成包括柵線和柵電極的圖案；

在形成上述圖案的襯底基板上形成柵極絕緣層；

在形成上述圖案的襯底基板上通過構圖工藝形成包括數據線、公共電極線、源電極、漏電極和有源層的圖案；

在形成上述圖案的襯底基板上通過構圖工藝形成包括像素電極的圖案，所述像素電極與所述漏電極搭接連通；

在形成上述圖案的襯底基板上形成鈍化層，通過構圖工藝形成包括接觸過孔的圖案；

在形成上述圖案的襯底基板上通過構圖工藝形成包括所述公共電極的圖案，所述公共電極線與所述公共電極通過所述接觸過孔連通。

9.根據權利要求7所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，在襯底基板的像素區域中形成柵線、開關元件、數據線、像素電極、公共電極和公共電極線的流程包括：

在襯底基板上通過構圖工藝形成包括柵線、柵電極和公共電極線的圖案；

在形成上述圖案的襯底基板上形成柵極絕緣層；

在形成上述圖案的襯底基板上通過構圖工藝形成包括數據線、源電極、漏電極和有源層的圖案；

在形成上述圖案的襯底基板上通過構圖工藝形成包括像素電極的圖案，所述像素電極與所述漏電極搭接連通；

在形成上述圖案的襯底基板上形成鈍化層，通過構圖工藝形成包括接觸過孔的圖案；

在形成上述圖案的襯底基板上通過構圖工藝形成包括所述公共電極的圖案，所述公共電極線與所述公共電極通過所述接觸過孔連通。