[發明專利]鍍膜件及其制備方法

無效

• 申請號: 201110009230.0
• 申請日: 2011-01-17
• 公開（公告）號: CN102586730A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;劉咸柱;李聰
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜件及該鍍膜件的制備方法。

背景技術

鋁合金和鎂合金具有質量輕、散熱性能好等優點，在汽車、航空、通訊、電子、機械等領域應用廣泛。然而由于鋁和鎂的化學活性較高，在空氣中容易氧化形成氧化膜，在一般的大氣環境下，鋁和鎂表面的氧化膜能夠有效地對鋁或鎂基體進行保護，但在含有電解質的濕氣中，例如海洋表面大氣環境，鋁和鎂合金表面將會出現嚴重的腐蝕，嚴重破環制品的外觀，同時導致制品使用壽命縮短。

耐鹽霧侵蝕性能是鋁合金和鎂合金耐腐蝕性能的一個重要參數，為了提高鋁和鎂合金的耐鹽霧侵蝕性能，通常需要對鋁和鎂合金表面進行表面成膜處理，常見的處理手段有陽極氧化處理、烤漆等，但這些工藝都存在較大的環境污染問題。而真空鍍膜(PVD)技術雖是一種非常環保的鍍膜工藝，且可鍍制的膜層種類豐富、耐磨性能優異，但PVD工藝沉積的薄膜往往是以柱狀晶形態生長，因此膜層存在大量的晶間間隙，導致薄膜致密性不夠而無法有效地防止鹽霧的侵蝕。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種可有效提高鋁和鎂合金耐鹽霧侵蝕性能的鍍膜件。

另外，還有必要提供一種上述鍍膜件的制備方法。

一種鍍膜件，其包括基體及形成于基體表面的防腐蝕層，該防腐蝕層中含有鎢酸鋯和氮氧化鋁。

一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟：

提供一基體；

采用磁控濺射法在該基體表面形成一防腐蝕層，該防腐蝕層中含有鎢酸鋯和氮氧化鋁，使用鋁基靶材，該鋁基靶材中含有金屬鋁及鎢酸鋯，以氮氣和氧氣為反應氣體。

本發明鍍膜件在所述基體的表面沉積防腐蝕層，該防腐蝕層中含有鎢酸鋯和氮氧化鋁，鎢酸鋯具有負熱膨脹系數，鍍膜完成后隨著溫度的下降，鎢酸鋯可膨脹填補氮氧化鋁微粒間的空隙，使所述防腐蝕層達到更加致密的結構，可有效延緩鹽霧對基體的滲透侵蝕，提高基體的抗腐蝕性能。

附圖說明

圖1為本發明一較佳實施例鍍膜件的剖視圖；

圖2為本發明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜件??????????????10

基體????????????????11

防腐蝕層????????????13

真空鍍膜機??????????20

鍍膜室??????????????21

鋁基靶材????????????23

軌跡????????????????25

真空泵??????????????30

具體實施方式

請參閱圖1，本發明一較佳實施方式的鍍膜件10包括基體11及形成于基體11表面的防腐蝕層13，該防腐蝕層13中含有氮氧化鋁(AlON)和鎢酸鋯(ZrW₂O₈)，其中鎢酸鋯的質量百分含量為15～35％。

該基體11的材質為純鋁、鋁合金、純鎂或鎂合金。

該防腐蝕層13可以磁控濺射的方式形成。該防腐蝕層13的厚度為0.5～1.1μm。

ZrW₂O₈具有負熱膨脹系數，即具有“熱縮冷脹”的性質，故可在濺射后冷卻的過程中填補氮氧化鋁微粒間的空隙，使所述防腐蝕層13達到致密的結構。

本發明一較佳實施方式的鍍膜件10的制備方法，其包括以下步驟：

(a)提供一基體11，該基體11為純鋁、鋁合金、純鎂或鎂合金。

(b)將基體11進行預處理。該預處理包括研磨、電解拋光、用去離子水和無水乙醇對基體11表面進行擦拭及丙酮中超聲波清洗等步驟。

(c)結合參閱圖2，提供一真空鍍膜機20，該真空鍍膜機20包括一鍍膜室21及連接于鍍膜室21的一真空泵30，真空泵30用以對鍍膜室21抽真空。該鍍膜室21內設有轉架(未圖示)、相對設置的二鋁基靶材23及擋板(未圖示)。擋板用以在清洗靶材時隔離濺射的粒子濺射至基體11上，其通過電動控制自動打開或關閉。轉架帶動基體11沿圓形的軌跡25公轉，且基體11在沿軌跡25公轉時亦自轉。

所述鋁基靶材23中含有金屬鋁及鎢酸鋯，其中鎢酸鋯的質量百分含量為20～40％，剩余的為金屬鋁。該鋁基靶材23的制備采用常規的粉末冶金的方法，按質量百分比為20～40％的鎢酸鋯粉體以及余量的鋁粉混合均勻，冷等靜壓制成一坯體，再經800～880℃燒結2～5h后自然冷卻?？捎蒙凹垖ι鲜鲋苽涞匿X基靶材23進行打磨，以使靶材表面平整。