[發明專利]包含氧化劑和有機溶劑的微電子清潔組合物

有效

• 申請號: 201110006416.0
• 申請日: 2003-05-27
• 公開（公告）號: CN102061228A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 許建斌
• 申請（專利權）人: 安萬托特性材料股份有限公司
• 主分類號: C11D7/06
• 分類號: C11D7/06;C11D7/34;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60;G03F7/42;H01L21/02;H01L21/311
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 封新琴

1.清潔組合物，其能夠從銅金屬化且具有低κ或高κ電介質的微電子基底清潔高度交聯或硬化的光致抗蝕劑的殘留物、后等離子體蝕刻/灰化殘留物、犧牲光吸收材料、防反射涂層、和含有鈦或鉭的結構，所述清潔組合物基本上由以下組成：

約0.1至約30重量％的過氧化氫；

約1至約99.9重量％的環丁砜作為具有氫鍵鍵合能力以及與所述氧化劑發生最小程度的反應或不發生反應的極性有機溶劑；

大于0至約30重量％的氫氧化四烷基銨作為堿；

0.1至5重量％的螯合劑或金屬絡合劑，其選自反-1，2-環己烷二胺四乙酸和乙二胺四(亞甲基膦酸)；和

約0.1至約98重量％的水，

其中該清潔組合物中各成分含量百分比的總和不超過100％。

2.權利要求1所述的清潔組合物，其中所述極性有機溶劑在組合物中存在的量為約10至約90重量％。

3.權利要求2所述的清潔組合物，其基本上由以下組成：環丁砜、氫氧化四甲基銨、反-1，2-環己烷二胺四乙酸、過氧化氫和水。

4.權利要求2所述的清潔組合物，其基本上由以下組成：環丁砜、氫氧化四甲基銨、乙二胺四(亞甲基膦酸)、過氧化氫和水。

5.權利要求1所述的清潔組合物，所述清潔組合物僅由所述組分組成。

6.權利要求5所述的清潔組合物，其由以下組成：環丁砜、反-1，2-環己烷二胺四乙酸、氫氧化四甲基銨、過氧化氫和水。

7.一種用于從銅金屬化且具有低κ或高κ電介質的微電子基底清潔高度交聯或硬化的光致抗蝕劑的殘留物、后等離子體蝕刻/灰化殘留物、犧牲光吸收材料、防反射涂層、和含有鈦或鉭的結構的方法，所述方法包含將基底與清潔組合物接觸足夠的時間以從微電子基底清潔光致抗蝕劑和殘留物，其中所述清潔組合物包含權利要求1至6任一項的組合物。

8.用于從微電子基底清潔光致抗蝕劑和殘留物的清潔組合物，所述清潔組合物基本上由以下組成：

約0.1至約30重量％的氧化劑；

約1至約99.9重量％的極性有機溶劑；

大于0至約30重量％的堿以向組合物提供堿性pH；

以及任選以下組分的一種或多種：

腐蝕抑制共溶劑；

螯合劑或金屬絡合劑；

氧化劑穩定劑；

腐蝕抑制劑；

金屬腐蝕抑制劑；

氟化物化合物；

表面活性劑；和

水，

其中該清潔組合物中各成分含量百分比的總和不超過100％。

9.用于從微電子基底清潔光致抗蝕劑和殘留物的清潔組合物，所述清潔組合物基本上由以下組成：

約0.1至約30重量％的氧化劑；

約1至約99.9重量％的極性有機溶劑；

必需量的合適的酸組分以足夠給予組合物酸性pH，如HCl或HF；

以及任選以下組分的一種或多種：

腐蝕抑制共溶劑；

螯合劑或金屬絡合劑；

氧化劑穩定劑；

腐蝕抑制劑；

金屬腐蝕抑制劑；

氟化物化合物；

表面活性劑；和

水，

其中該清潔組合物中各成分含量百分比的總和不超過100％。