[發(fā)明專利]光致抗蝕劑組合物

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110005775.4
• 申請(qǐng)日: 2011-01-07
• 公開（公告）號(hào): CN102129171A
• 公開（公告）日: 2011-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 增山達(dá)郎;向井優(yōu)一;島田雅彥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/004
• 分類號(hào): G03F7/004;G03F7/027;G03F7/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 柳春琦

1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含：

選自由式(I)表示的單體、由衍生自由式(I)表示的單體的結(jié)構(gòu)單元構(gòu)成的聚合物，和由衍生自由式(I)表示的單體的結(jié)構(gòu)單元和衍生自由式(II)表示的單體的結(jié)構(gòu)單元構(gòu)成的聚合物組成的組中的至少一種：

在式(I)中，R¹表示氫原子或甲基，W¹表示C3-C20二價(jià)飽和環(huán)烴基，其可以具有一個(gè)或多個(gè)選自由羥基、鹵素原子、氰基和硝基組成的組中的取代基，并且其中一個(gè)或多個(gè)-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，A¹表示單鍵或*-O-CO-R²-，其中*表示與W¹＝N-的結(jié)合位置，并且R²表示C1-C10二價(jià)飽和烴基，其中一個(gè)或多個(gè)-CH₂-可以被-O-，-CO-或-NH-代替，

在式(II)中，R³表示氫原子或甲基，A²表示單鍵或*-O-CO-(CH₂)_n-，其中*表示與R⁴-的結(jié)合位置，n表示1至7的整數(shù)，并且R⁴表示C3-C20飽和環(huán)烴基，其中一個(gè)或多個(gè)-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，

樹脂，所述樹脂具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)，并且不溶或難溶于堿性水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液，和

酸生成劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中W¹是由式(W¹-A)表示的基團(tuán)：

其中R⁵在每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立地是羥基，鹵素原子，氰基或硝基，并且m表示0至5的整數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中R⁵是羥基。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述酸生成劑是由式(B1)表示的鹽：

其中Q¹和Q²各自獨(dú)立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L^b1表示單鍵或C1-C17二價(jià)飽和烴基，其中一個(gè)或多個(gè)-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，

Y表示可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的C1-C18脂族烴基或可以具有一個(gè)或多個(gè)取代基的C3-C18飽和環(huán)烴基，并且所述脂族烴基和所述飽和環(huán)烴基中的一個(gè)或多個(gè)-CH₂-可以被-O-，-SO₂-或-CO-代替，并且Z⁺表示有機(jī)抗衡陽離子。

5.一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括下列步驟(1)至(5)：

(1)將根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在襯底上的步驟，

(2)通過進(jìn)行干燥形成光致抗蝕劑膜的步驟，

(3)將所述光致抗蝕劑膜對(duì)輻射曝光的步驟，

(4)將經(jīng)曝光的光致抗蝕劑膜烘焙的步驟，和

(5)將經(jīng)烘焙的光致抗蝕劑膜用堿性顯影劑顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。