[發(fā)明專利]基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多層浮柵全固態(tài)pH值傳感器無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110003064.3 | 申請日: | 2011-01-07 |
| 公開(公告)號: | CN102175740A | 公開(公告)日: | 2011-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 施朝霞;曹全君;彭銀生;常麗萍 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G01N27/414 | 分類號: | G01N27/414 |
| 代理公司: | 杭州天正專利事務(wù)所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;王利強(qiáng) |
| 地址: | 310014 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 標(biāo)準(zhǔn) cmos 工藝 多層 浮柵全 固態(tài) ph 傳感器 | ||
1.一種基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多層浮柵全固態(tài)pH值傳感器,包括場效應(yīng)管漏區(qū)和場效應(yīng)管源區(qū)構(gòu)成的PMOS場效應(yīng)管,所述PMOS場效應(yīng)管與氧化層連接,其特征在于:所述氧化層上覆蓋多層懸浮柵極結(jié)構(gòu),所述多層懸浮柵極結(jié)構(gòu)自上而上依次包括連接層、金屬1層、通孔層和金屬2層,所述多層懸浮柵極結(jié)構(gòu)上覆蓋二氧化硅和氮化硅復(fù)合的氫離子敏感層。
2.如權(quán)利要求1所述的基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多層浮柵全固態(tài)pH值傳感器,其特征在于:所述多層浮柵全固態(tài)pH值傳感器還包括信號處理電路,用以恒定PMOS場效應(yīng)管的源漏電流和源漏電壓,當(dāng)所述PMOS場效應(yīng)管工作在線性區(qū)時,PMOS場效應(yīng)管的源端電壓隨閾值電壓反向線性輸出,從而輸出電壓與溶液pH值成線性關(guān)系。
3.如權(quán)利要求2所述的基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多層浮柵全固態(tài)pH值傳感器,其特征在于:所述信號處理電路包括基準(zhǔn)電壓源、Cascode結(jié)構(gòu)電流鏡、軌對軌跟隨器和電阻R,所述基準(zhǔn)電壓源輸出穩(wěn)定電壓給電流鏡提供電壓偏置,產(chǎn)生電流恒定的電流源,所述電流源串聯(lián)于電源電壓和PMOS場效應(yīng)管源極之間,為PMOS場效應(yīng)管提供恒定的源漏電流,所述兩個軌對軌跟隨器分別串聯(lián)于PMOS場效應(yīng)管源極與電阻R一端和PMOS場效應(yīng)管漏極和電阻R的另一端,形成反饋電路,所述電阻R與另一串聯(lián)與地的電流源產(chǎn)生恒定PMOS產(chǎn)效應(yīng)管的源漏電壓。
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