[發(fā)明專利]粒子射線照射裝置、粒子射線治療裝置以及數(shù)據(jù)顯示程序

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080070331.2
• 申請(qǐng)日: 2010-12-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103228319A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 巖田高明;鉾館俊之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): A61N5/10
• 分類號(hào): A61N5/10
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 侯穎媖

1.一種粒子射線照射裝置，利用掃描電磁鐵使經(jīng)加速器加速后的帶電粒子束進(jìn)行掃描，并向照射對(duì)象照射，該粒子射線照射裝置包括：

檢測(cè)器，該檢測(cè)器檢測(cè)和所述帶電粒子束的照射位置相關(guān)聯(lián)的實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值；以及

數(shù)據(jù)處理裝置，該數(shù)據(jù)處理裝置將照射位置關(guān)聯(lián)值誤差與所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值相對(duì)應(yīng)地在顯示部上顯示，該照射位置關(guān)聯(lián)值誤差是所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值的、相對(duì)于目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值的誤差，該目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值和所述帶電粒子束的目標(biāo)照射位置相關(guān)聯(lián)，

所述數(shù)據(jù)處理裝置具有：

輸入部，該輸入部輸入所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值以及所述目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值；以及

運(yùn)算部，該運(yùn)算部在和所述帶電粒子束的照射區(qū)域相關(guān)聯(lián)的照射區(qū)域關(guān)聯(lián)區(qū)域上、顯示表示所述目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值的目標(biāo)值顯示圖形以及表示所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值的測(cè)定值顯示圖形時(shí)，在所述目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值的坐標(biāo)上顯示所述目標(biāo)值顯示圖形，在將利用變形系數(shù)對(duì)所述照射位置關(guān)聯(lián)值誤差進(jìn)行運(yùn)算后的坐標(biāo)加上所述目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值而得到的坐標(biāo)、即顯示坐標(biāo)上顯示所述測(cè)定值顯示圖形，并顯示將所述測(cè)定值顯示圖形與所述目標(biāo)值顯示圖形相連接的線段。

2.如權(quán)利要求1所述的粒子射線照射裝置，其特征在于，

所述運(yùn)算部具有：

測(cè)定值運(yùn)算部，該測(cè)定值運(yùn)算部計(jì)算所述顯示坐標(biāo)，并在所述顯示坐標(biāo)上顯示所述測(cè)定值顯示圖形；

目標(biāo)值運(yùn)算部，該目標(biāo)值運(yùn)算部在所述目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值的坐標(biāo)上顯示所述目標(biāo)值顯示圖形；以及

線段顯示運(yùn)算部，該線段顯示運(yùn)算部顯示將所述測(cè)定值顯示圖形與所述目標(biāo)值顯示圖形相連接的線段。

3.如權(quán)利要求1或2所述的粒子射線照射裝置，其特征在于，

所述檢測(cè)器是檢測(cè)所述帶電粒子束的通過(guò)位置的位置監(jiān)視器，

所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值是所述位置監(jiān)視器根據(jù)所述帶電粒子束通過(guò)所述位置監(jiān)視器的位置來(lái)輸出的值，所述目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值是所述位置監(jiān)視器對(duì)應(yīng)于所述帶電粒子束為實(shí)現(xiàn)照射到目標(biāo)照射位置上而應(yīng)當(dāng)通過(guò)所述位置監(jiān)視器的位置來(lái)輸出的形式的值，所述照射位置關(guān)聯(lián)值誤差是所述照射位置與所述目標(biāo)照射位置之差、即位置誤差，所述照射區(qū)域關(guān)聯(lián)區(qū)域是在所述位置監(jiān)視器上、所述帶電粒子束能通過(guò)的區(qū)域。

4.如權(quán)利要求1或2所述的粒子射線照射裝置，其特征在于，

所述檢測(cè)器是檢測(cè)所述掃描電磁鐵的磁場(chǎng)的磁場(chǎng)傳感器，

所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值是由所述磁場(chǎng)傳感器所檢測(cè)出的磁場(chǎng)、即實(shí)際磁場(chǎng)，所述目標(biāo)照射位置關(guān)聯(lián)值是所述掃描電磁鐵的目標(biāo)磁場(chǎng)，所述照射位置關(guān)聯(lián)值誤差是所述實(shí)際磁場(chǎng)與所述目標(biāo)磁場(chǎng)之差、即磁場(chǎng)誤差，所述照射區(qū)域關(guān)聯(lián)區(qū)域是所述掃描電磁鐵的磁場(chǎng)區(qū)域。

5.一種粒子射線照射裝置，利用掃描電磁鐵使經(jīng)加速器加速后的帶電粒子束進(jìn)行掃描，并向照射對(duì)象照射，該粒子射線照射裝置包括：

檢測(cè)器，該檢測(cè)器檢測(cè)和所述帶電粒子束的照射位置相關(guān)聯(lián)的實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值；以及

數(shù)據(jù)處理裝置，該數(shù)據(jù)處理裝置基于所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值來(lái)計(jì)算所述帶電粒子束的實(shí)際照射位置，并將照射位置誤差與所述實(shí)際照射位置相對(duì)應(yīng)地在顯示部上顯示，該照射位置誤差是所述實(shí)際照射位置的、相對(duì)于所述帶電粒子束的目標(biāo)照射位置的誤差，

所述數(shù)據(jù)處理裝置具有：

輸入部，該輸入部輸入所述實(shí)際照射位置關(guān)聯(lián)值以及所述目標(biāo)照射位置；以及

運(yùn)算部，該運(yùn)算部在所述帶電粒子束的照射區(qū)域上、顯示表示所述目標(biāo)照射位置的目標(biāo)值顯示圖形以及表示所述實(shí)際照射位置的測(cè)定值顯示圖形時(shí)，在所述目標(biāo)照射位置的坐標(biāo)上顯示所述目標(biāo)值顯示圖形，在將利用變形系數(shù)對(duì)所述照射位置誤差進(jìn)行運(yùn)算后的坐標(biāo)加上所述目標(biāo)照射位置而得到的坐標(biāo)、即顯示坐標(biāo)上顯示所述測(cè)定值顯示圖形，并顯示將所述測(cè)定值顯示圖形與所述目標(biāo)值顯示圖形相連接的線段。

6.如權(quán)利要求5所述的粒子射線照射裝置，其特征在于，

所述運(yùn)算部具有：

測(cè)定值運(yùn)算部，該測(cè)定值運(yùn)算部計(jì)算所述顯示坐標(biāo)，并在所述顯示坐標(biāo)上顯示所述測(cè)定值顯示圖形；

目標(biāo)值運(yùn)算部，該目標(biāo)值運(yùn)算部在所述目標(biāo)照射位置的坐標(biāo)上顯示所述目標(biāo)值顯示圖形；以及

線段顯示運(yùn)算部，該線段顯示運(yùn)算部顯示將所述測(cè)定值顯示圖形與所述目標(biāo)值顯示圖形相連接的線段。