[發明專利]用于標記太陽能電池的方法以及太陽能電池

無效

• 申請號: 201080068212.3
• 申請日: 2010-07-26
• 公開（公告）號: CN103109374A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發明（設計）人: M·赫魯斯卡;C·斯萬克斯科;M·舍夫;J·米勒;A·庫克斯
• 申請（專利權）人: 韓華Q.CEllS有限公司
• 主分類號: H01L31/02
• 分類號: H01L31/02;H01L31/0236;H01L23/544
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 王鳳桐;周建秋

1.一種用于標記太陽能電池的方法，該方法包括以下步驟：

提供太陽能電池基板（1）；

選擇識別圖樣以用于在太陽能電池的制造過程的處理步驟中識別所述太陽能電池基板（1）和/或用于在將太陽能電池組裝為太陽能電池模塊后追蹤所述太陽能電池基板（1）；

在所述太陽能電池基板（1）的表面（2）上形成蝕刻耐受層（3）；

用蝕刻劑蝕刻所述太陽能電池基板（1）的表面（2），從而形成蝕刻耐受層（3）使得所述識別圖樣的形狀中的所述表面（2）的圖樣區域（4）免受所述蝕刻劑。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，蝕刻步驟包括損傷蝕刻步驟和/或紋理蝕刻步驟。

3.根據前述權利要求中任意一項所述的方法，其特征在于，在蝕刻步驟之后從所述太陽能電池基板（1）的表面（2）除去所述蝕刻耐受層（3）。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，在蝕刻步驟中從所述太陽能電池基板（1）的表面（2）基本上或全部除去所述蝕刻耐受層（3）。

5.根據權利要求3或4所述的方法，其特征在于，在除去所述蝕刻耐受層（3）之前進行損傷蝕刻步驟，在除去所述蝕刻耐受層（3）之后進行紋理蝕刻步驟。

6.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，在接下來的太陽能電池生產過程中和/或在已完成的太陽能電池和/或太陽能電池模塊中，部分或全部的所述蝕刻耐受層（3）保留在所述太陽能電池基板（1）的表面（2）上。

7.根據前述權利要求中任意一項所述的方法，其特征在于，通過蝕刻步驟降低所述太陽能電池基板（1）的表面（2）的反射率。

8.根據前述權利要求中任意一項所述的方法，其特征在于，通過蝕刻步驟降低所述太陽能電池基板（1）的表面（2）的電荷載流子復合率。

9.根據前述權利要求中任意一項所述的方法，其特征在于，所述蝕刻劑包括蝕刻液和/或蝕刻漿。

10.根據前述權利要求中任意一項所述的方法，其特征在于，所述識別圖樣的形狀中的圖樣區域（4）位于由所述太陽能電池基板（1）制成的太陽能電池的表面（2）的活躍區域（21）中。

11.根據權利要求1-9中的任意一項所述的方法，其特征在于，所述識別圖樣的形狀中的區域位于由所述太陽能電池基板（1）制成的太陽能電池的表面（2）的活躍區域（21）之外，位于太陽能電池基板（1）的周邊區域（22）。

12.一種太陽能電池，該太陽能電池包括具有損傷蝕刻化的表面（2）和/或紋理化的表面（2）的太陽能電池基板（1），所述紋理化的表面（2）的紋理通過用蝕刻劑的紋理蝕刻制造，所述損傷蝕刻化的表面（2）和/或紋理化的表面（2）包括在用于識別所述太陽能電池基板（1）的識別圖樣的形狀中的具有低復合率的區域和/或沒有紋理的區域。