[發明專利]用于制備氯·氫氧化鈉的電解池以及制備氯·氫氧化鈉的方法有效
| 申請號: | 201080068005.8 | 申請日: | 2010-10-01 |
| 公開(公告)號: | CN103025920A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發明(設計)人: | 井筒智典;齋木幸治;井口幸德;淺海清人 | 申請(專利權)人: | 氯工程公司;鐘化股份有限公司;東亞合成株式會社 |
| 主分類號: | C25B9/00 | 分類號: | C25B9/00;C25B1/16;C25B1/26 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 牛海軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制備 氫氧化鈉 電解池 以及 方法 | ||
1.一種被離子交換膜分成陽極室和陰極室的電解池,所述電解池包括安裝在所述陽極室中的陽極以及安裝在所述陰極室中的液體保持層和氣體擴散電極,其中在分別向所述陽極室中提供鹽水并且向所述陰極室中提供含氧氣體的同時進行電解;其特征在于,所述液體保持層設置在所述離子交換膜和所述氣體擴散電極之間,每單位體積的所述液體保持層的液體保持量為0.10g-H2O/cm3以上且0.80g-H2O/cm3以下。
2.根據權利要求1所述的電解池,其中所述液體保持量為0.15g-H2O/cm3以上且0.61g-H2O/cm3以下。
3.根據權利要求1或2所述的電解池,其中所述液體保持層與所述離子交換膜或所述氣體擴散電極一體化。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的電解池,其中所述液體保持層由對于氫氧化鈉具有化學和物理耐性的材料制成。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的電解池,其中從所述陰極室排出的氫氧化鈉的水溶液的濃度為25.0重量%以上且33.0重量%以下。
6.一種使用根據權利要求1至5中任一項所述的電解池制備氫氧化鈉的方法。
7.一種使用根據權利要求1至5中任一項所述的電解池制備氯的方法。
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