[發(fā)明專利]利用壓料輥的速度控制在擠壓涂布膜的同時消除缺陷的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080067077.0
• 申請日: 2010-05-27
• 公開（公告）號: CN102917856A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘭迪·S·貝;托德·G·佩特;布倫特·R·漢森
• 申請（專利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類號: B29C47/92
• 分類號: B29C47/92;B29C41/26;B29C41/52;B29C47/02
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 梁曉廣;關(guān)兆輝

1.一種消除擠壓涂布膜中的光學(xué)缺陷的方法，包括：

將膜運(yùn)送到涂布站，所述涂布站包括擠靠在一起的彈性輥和澆鑄輥以及鄰近輥隙的擠壓涂布模頭；

使所述膜與所述彈性輥接觸，同時將聚合物材料擠出到所述輥隙中；和

將彈性輥的表面速度調(diào)節(jié)為與澆鑄輥的表面速度不同以消除光學(xué)缺陷，使得彈性輥的表面速度與澆鑄輥的表面速度之間的差值不超過澆鑄輥的表面速度的±5%。

2.一種消除擠壓涂布膜中的光學(xué)缺陷的方法，包括：

將膜運(yùn)送到涂布站，所述涂布站包括擠靠在一起的彈性輥和澆鑄輥以及鄰近輥隙的擠出模頭，其中澆鑄輥的外表面具有用于在所述膜上形成微復(fù)制型圖案的多個峰和谷，并且其中所述輥隙中的輥隙壓力為至少100磅/線英寸（175N/cm）；

使所述膜與所述彈性輥接觸，同時將聚合物材料擠出到所述輥隙中；和

將彈性輥的表面速度調(diào)節(jié)為與澆鑄輥的表面速度不同以消除光學(xué)缺陷。

3.一種消除擠壓涂布膜中的光學(xué)缺陷的方法，包括：

將膜運(yùn)送到涂布站，所述涂布站包括擠靠在一起的彈性輥和澆鑄輥以及鄰近輥隙的擠出模頭；

使所述膜與所述彈性輥接觸，同時將聚合物材料擠出到所述輥隙中，以形成厚度為所述膜的厚度的至少2倍的涂布層；和

將彈性輥的表面速度調(diào)節(jié)為與澆鑄輥的表面速度不同以消除光學(xué)缺陷。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其中所述膜為單軸取向的膜，并且所述彈性輥的表面速度被調(diào)節(jié)為大于所述澆鑄輥的表面速度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其中所述膜為雙軸取向的膜，并且所述彈性輥的表面速度被調(diào)節(jié)為小于所述澆鑄輥的表面速度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其中所述膜的厚度小于3密耳（0.076mm）。

7.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其中所述彈性輥的表面速度與所述澆鑄輥的表面速度之間的差值不超過所述澆鑄輥的表面速度的±2%。

8.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的方法，其中所述輥隙中的輥隙壓力在約500磅/線英寸（875N/cm）和1000磅/線英寸（1750N/cm）之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中將聚合物材料擠出到所述輥隙中以形成厚度為所述膜的厚度的約2倍至約6倍之間的涂布層。