[發(fā)明專利]用于反射陽光的前表面鏡及其制備方法和應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080066007.3
• 申請日: 2010-07-26
• 公開（公告）號: CN102812385A
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M.巴凱;Y.戴曼特;A.格特
• 申請（專利權(quán)）人: 西門子聚集太陽能有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B5/08;F24J2/10;C03C17/36
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 周鐵;林森

1.用于反射陽光的前表面鏡(1)，其中所述鏡包含位于基材(11)的基材表面(111)上的多層疊層(10)，所述多層疊層包含以下層疊序列：

-?設(shè)置在所述基材的所述基材表面上的至少一個粘合層(101)；

-?至少一個中間結(jié)合層(102)；

-?至少一個反射層(103)，其含有用于反射陽光的至少一種反射材料；

-?至少一個鈍化層(104)，其使得所述反射材料對至少一種戶外環(huán)境條件呈惰性；和

-?至少一個抗刮保護(hù)層(105)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的前表面鏡，其中所述粘合層包含選自鉻(Cr)和鎳(Ni)的至少一種粘合材料。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的前表面鏡，其中所述粘合層的厚度為0.5-20nm，特別地1-15nm，更特別地5-10nm。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述中間結(jié)合層包含選自鎳和鉻的至少一種中間層材料。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述中間結(jié)合層的厚度為5-80nm，特別地10-60nm，更特別地30-50nm。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述反射材料為銀。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述反射層的厚度為50-250nm，特別地70-200nm，更特別地100-150nm。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中在所述粘合層與所述中間結(jié)合層之間設(shè)置至少一個過渡區(qū)層(112)，且所述過渡區(qū)層包含所述粘合層的所述粘合材料以及所述中間結(jié)合層的所述中間層材料。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中在所述中間結(jié)合層與所述反射層之間設(shè)置至少一個另外的過渡區(qū)層(123)，且所述另外的過渡區(qū)層包含所述中間結(jié)合層的所述中間層材料以及所述反射層的所述反射材料。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的前表面鏡，其中所述過渡區(qū)層和/或所述另外的過渡區(qū)層的厚度為0.5-20nm，特別地1-15nm，更特別地5-10nm。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述鈍化層包含選自氧化鋅、硒化鋅和硫化鋅的至少一種鈍化材料。

12.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述鈍化層的厚度為0.1-20nm，優(yōu)選地0.5-15nm，更優(yōu)選地1.0-10nm。

13.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述抗刮保護(hù)層包含作為抗刮保護(hù)材料的二氧化硅。

14.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中所述抗刮保護(hù)層的厚度為200-3000nm，優(yōu)選地500-2500nm，更優(yōu)選地1000-2000nm。

15.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的前表面鏡，其中在所述鈍化層與所述抗刮保護(hù)層之間設(shè)置至少一個加強(qiáng)層(145,?154)。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的前表面鏡，其中所述加強(qiáng)層包含選自二氧化硅、二氧化鈦和二氧化鋯的至少一種加強(qiáng)材料。

17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的前表面鏡，其中所述加強(qiáng)層的厚度為10-150nm、特別地20-100nm、更特別地30-80nm。

18.用于制造根據(jù)權(quán)利要求1所述的前表面鏡的方法，其包括以下步驟：

a)?提供具有基材表面的基材；

b)?在所述基材表面上設(shè)置所述粘合層；

c)?在所述粘合層上設(shè)置所述中間結(jié)合層；

d)?在所述中間結(jié)合層上設(shè)置所述反射層；

e)?在所述反射層上設(shè)置所述鈍化層；和

f)?在所述鈍化層上設(shè)置所述抗刮保護(hù)層。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中采用薄膜沉積技術(shù)來設(shè)置所述步驟b)-f)中的至少一個步驟的相應(yīng)層。

20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中所述薄膜沉積技術(shù)選自原子層沉積、化學(xué)氣相沉積和物理氣相沉積。

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中所述物理氣相沉積采用濺射。

22.根據(jù)權(quán)利要求1-17所述的前表面鏡在用于將太陽能轉(zhuǎn)換成電能的發(fā)電廠中的用途，其中由所述前表面鏡來進(jìn)行陽光的聚集。