[發明專利]濺射設備和制造電子裝置的方法

無效

• 申請號: 201080065780.8
• 申請日: 2010-12-08
• 公開（公告）號: CN102822378A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 山口述夫;真下公子;長澤慎也
• 申請（專利權）人: 佳能安內華股份有限公司
• 主分類號: C23C14/00
• 分類號: C23C14/00;H01L21/31
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 蔣旭榮

1.一種濺射設備，該濺射設備包括：

處理腔室，該處理腔室設置成進行沉積處理；

排氣腔室，該排氣腔室通過排氣口與所述處理腔室連接；

排氣裝置，該排氣裝置與所述排氣腔室連接，并通過所述排氣腔室對所述處理腔室抽真空；

基板保持器，該基板保持器布置在所述處理腔室中，并設置成將基板布置于該基板保持器上；

靶保持器，該靶保持器布置在所述處理腔室中；

閘板，該閘板能夠運動成采取屏蔽狀態和后退狀態中的一個，在該屏蔽狀態中，所述閘板屏蔽在所述基板保持器和所述靶保持器之間的間隙，在該后退狀態中，所述閘板從在所述基板保持器和所述靶保持器之間的間隙后退；

驅動裝置，用于驅動所述閘板，以便使得所述閘板設定在屏蔽狀態和后退狀態中的一個；

閘板容納單元，該閘板容納單元可拆卸地布置在所述排氣腔室內，并容納處于后退狀態的所述閘板；以及

屏蔽部件，該屏蔽部件至少局部覆蓋所述排氣腔室的排氣口，并至少局部環繞所述閘板容納單元的開口部分形成。

2.根據權利要求1所述的濺射設備，其中：氣體引入管布置在所述閘板容納單元中。

3.根據權利要求1所述的濺射設備，其中：通孔形成于所述閘板容納單元中，以便與所述排氣裝置連通。

4.根據權利要求1至3中任意一項所述的濺射設備，其中：用于測量所述處理腔室中的壓力的測量裝置布置在所述閘板容納單元中。

5.根據權利要求1至4中任意一項所述的濺射設備，其中：所述靶保持器包括相對屏蔽件，該相對屏蔽件布置在相對于所述基板保持器的基板安裝位置偏離的位置處，并大致與所述基板保持器相對，所述相對屏蔽件包括形成于該相對屏蔽件中的第一排氣通路，以便與排氣口連通。

6.根據權利要求5所述的濺射設備，其中：所述第一排氣通路有迷宮形形狀。

7.根據權利要求1至6中任意一項所述的濺射設備，其中：所述閘板容納單元和所述屏蔽部件相互形成一體。

8.根據權利要求1至7中任意一項所述的濺射設備，其中：所述閘板容納單元和所述屏蔽部件相互分開地提供，所述屏蔽部件可拆卸地安裝在所述閘板容納單元上。

9.一種使用濺射設備來制造電子裝置的方法，該濺射設備包括：

處理腔室，該處理腔室設置成進行沉積處理；

排氣腔室，該排氣腔室通過排氣口與處理腔室連接；

排氣裝置，該排氣裝置與排氣腔室連接，并通過排氣腔室對處理腔室抽真空；

基板保持器，該基板保持器布置在處理腔室中，并設置成將基板布置于該基板保持器上；

靶保持器，該靶保持器布置在處理腔室中；

閘板，該閘板能夠運動成采取屏蔽狀態和后退狀態中的一個，在該屏蔽狀態中，閘板屏蔽在基板保持器和靶保持器之間的間隙，在該后退狀態中，閘板從在基板保持器和靶保持器之間的間隙后退；

驅動裝置，用于驅動閘板，以便使得該閘板設定在屏蔽狀態和后退狀態中的一個；

閘板容納單元，該閘板容納單元可拆卸地布置在排氣腔室內，并容納處于后退狀態的閘板；以及

屏蔽部件，該屏蔽部件至少局部覆蓋排氣腔室的排氣口，并至少局部環繞閘板容納單元的開口部分形成；

該方法包括：

第一步驟，即通過驅動裝置來使得閘板設定在屏蔽狀態；

第二步驟，即當閘板保持在屏蔽狀態中時通過濺射保持在靶保持器上的靶來沉積薄膜；以及

第三步驟，即通過驅動裝置來使得閘板設定在后退狀態中，并濺射該靶以便在布置于基板保持器上的基板上沉積薄膜。

10.根據權利要求9所述的制造電子裝置的方法，其中：

濺射設備還包括：

靶閘板，該靶閘板能夠打開/關閉在靶和基板之間的間隙，與閘板采取屏蔽狀態時的位置相比，打開/關閉該間隙的靶閘板在更靠近靶的位置處；以及

靶閘板驅動裝置，用于驅動靶閘板；以及

第二步驟包括調節步驟，即在使得靶閘板通過靶閘板驅動裝置設定在打開狀態時濺射該靶。