[發明專利]真空產生設備及設置在真空產生設備中的真空容器

有效

• 申請號: 201080065485.2
• 申請日: 2010-08-05
• 公開（公告）號: CN103097259A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 金容國
• 申請（專利權）人: 金容國
• 主分類號: B65D81/20
• 分類號: B65D81/20;B65D51/16;B65D51/24
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 許向彤;林錦輝

1.一種真空產生設備，包括：

活塞件，能夠沿直線移動地安置在形成在真空腔處并且具有第一出口的容納部中，并且設置有第二出口；

彈性件，安置在所述活塞件內；

第一閥板，安置在所述容納部中并且適于打開或關閉所述第一出口；

第二閥板，安置在所述活塞件處并且適于打開或關閉所述第二出口；

防分離板，安裝在所述容納部中并且防止所述活塞件分離；以及

第一閥板按壓單元，安裝在容納部中，并且當所述活塞件下降并且被所述防分離板阻擋和固定到所述防分離板時，適于通過壓迫所述第一閥板來關閉所述第一出口。

2.根據權利要求1所述的真空產生設備，其中，所述第一閥板按壓單元包括：

支撐件，安置在所述容納部上并且具有豎直的中空內側；

按壓桿，位于所述支撐件中并且適于按壓所述第一閥板；以及

操作桿，與所述活塞件連接，并且當所述活塞件下降并被所述防分離板阻擋和固定到所述防分離板時，適于按壓所述按壓桿。

3.根據權利要求2所述的真空產生設備，其中，支撐件包括：

接收部，位于所述容納部的下表面上并且在所述接收部的表面處具有至少一個排氣孔；以及

導引部，與所述接收部連接，具有比所述接收部小的圓周，并且具有形成在所述導引部的內表面處的至少一個導引槽，

其中，插入所述導引槽的至少一個導引突起形成在所述推壓桿的外周處。

4.根據權利要求3所述的真空產生設備，其中，阻擋槽形成在所述接收部處，并且插入所述阻擋槽的阻擋突起形成在所述容納部的下表面上。

5.根據權利要求2所述的真空產生設備，其中，所述第一閥板按壓單元進一步包括形成在所述按壓桿和所述操作桿的相對表面處的凸輪部。

6.根據權利要求5所述的真空產生設備，其中，所述凸輪部包括形成在所述按壓桿處的第一突起和凹陷以及形成在所述操作桿處的第二突起和凹陷。

7.根據權利要求6所述的真空產生設備，其中，

所述第一突起和凹陷包括以均勻距離安置的多個第一凸部，形成在所述第一凸部之間的多個第一凹部，以及將所述第一凸部和所述第一凹部連接的第一斜面，

所述第二突起和凹陷包括以均勻距離安置的多個第二凸部，形成在所述第二凸部之間的多個第二凹部，以及將所述第二凸部和所述第二凹部連接的第二斜面，并且

當所述活塞件下降并且被所述防分離板阻擋和固定到所述防分離板時，第二凸部按壓所述第一凸部。

8.根據權利要求1所述的真空產生設備，其中，

所述活塞件穿過所述防分離板的內部孔，

至少一個平整表面部形成在所述活塞件的圓周處，阻擋臺階形成在所述活塞件的一側，并且環部形成在所述活塞件的另一側，

在所述活塞件的上升狀態中對著所述平整表面的防轉動突起形成在所述防分離板的內側，

所述環部被所述防轉動突起阻擋并且所述活塞件在所述上升狀態中不能進一步上升，并且

當所述活塞件下降時，所述活塞件不被所述防轉動突起阻擋并且能夠轉動，并且當所述活塞件在所述下降狀態中轉動時，所述阻擋臺階被所述防轉動突起阻擋，從而保持所述活塞件的下降狀態。

9.根據權利要求1所述的真空產生設備，其中，插入所述第一出口和所述第二出口并且使所述第一閥板和所述第二閥板的位置對準的各個位置對準突起形成在所述第一閥板和所述第二閥板的每個表面上。

10.一種真空容器，包括安裝有根據權利要求1至9中任意一項所述的真空發生設備的蓋，以及耦接到所述蓋從而形成存儲空間的主體。