[發明專利]碳化鉭被覆碳材料及其制造方法有效
| 申請號: | 201080064887.0 | 申請日: | 2010-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN102770582A | 公開(公告)日: | 2012-11-07 |
| 發明(設計)人: | 近藤美華 | 申請(專利權)人: | 東洋炭素株式會社 |
| 主分類號: | C23C16/32 | 分類號: | C23C16/32;C30B29/36;H01L21/205 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 蔡曉菡;萬雪松 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 碳化 被覆 材料 及其 制造 方法 | ||
1.碳化鉭被覆碳材料,其特征在于,具有碳基材、和在所述碳基材上被覆的碳化鉭被覆膜,
所述碳化鉭被覆膜在由X射線衍射得到的與碳化鉭對應的衍射峰的(311)面的取向角度中在80°以上具有最大的峰值。
2.根據權利要求1所述的碳化鉭被覆碳材料,其特征在于,所述碳化鉭被覆膜在由X射線衍射得到的與碳化鉭對應的衍射峰的(220)面的取向角度中在80°以上具有最大的峰值。
3.根據權利要求1或2所述的碳化鉭被覆碳材料,其特征在于,由X射線衍射得到的碳化鉭晶體的(311)面和(220)面的衍射強度之和,相對于由X射線衍射得到的與碳化鉭晶體對應的全部晶面的衍射強度的總和為0.5以上且0.9以下。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的碳化鉭被覆碳材料,其特征在于,所述碳化鉭被覆膜的X射線衍射圖形中的(311)面或(220)面的衍射線的強度為最大。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的碳化鉭被覆碳材料,其特征在于,所述碳化鉭被覆膜的X射線衍射圖形中的(311)面或(220)面的衍射線的半寬度為0.2°以下。
6.碳化鉭被覆碳材料,其特征在于,具有碳基材、和被覆在所述碳基材上的碳化鉭被覆膜,
形成所述碳化鉭被覆膜的晶粒從碳基材表面向著碳化鉭被覆膜外面呈梯度變大。
7.碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其是在碳基材上形成碳化鉭被覆膜的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,包含下述工序:
在所述碳基材的表面形成碳化鉭晶核的晶核生成工序;和
在所述晶核生成工序后使所述碳化鉭晶核結晶生長的結晶生長工序,
所述結晶生長工序具有使制造溫度逐漸上升的升溫工序。
8.根據權利要求7所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,在所述晶核生成工序中,形成所述碳化鉭晶核的溫度為850~950℃。
9.根據權利要求7或8所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,所述升溫工序具有50℃以上的溫度差。
10.根據權利要求7~9中任一項所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,在所述升溫工序后,保持所述升溫工序結束時的制造溫度。
11.根據權利要求7~10中任一項所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,在所述升溫工序中,使所述制造溫度以一定的速度上升。
12.碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其是通過碳化鉭被覆膜形成工序在碳基材上形成碳化鉭被覆膜的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,
所述碳化鉭被覆膜形成工序具有下述工序:
在所述碳基材的表面形成第1碳化鉭被覆膜的第1形成工序,和
在第1碳化鉭被覆膜上形成至少1層碳化鉭被覆膜的第2形成工序,
所述第1碳化鉭被覆膜,在由X射線衍射得到的與碳化鉭對應的衍射峰的(311)面的取向角度中在80°以上具有最大的峰值。
13.根據權利要求12所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,所述第1形成工序和所述第2形成工序在通過支承物支承被覆對象物的同時進行,將所述第1形成工序中由支承物所造成的被覆膜的缺損部分在第2形成工序中進行被覆。
14.根據權利要求12或13所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,所述第1形成工序包含下述工序:
在所述碳基材的表面形成碳化鉭晶核的晶核生成工序,
在所述晶核生成工序后使所述碳化鉭晶核結晶生長的結晶生長工序,
所述結晶生長工序具有使制造溫度逐漸上升的升溫工序。
15.根據權利要求12~14中任一項所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,所述碳化鉭被覆膜,在由X射線衍射得到的與碳化鉭對應的衍射峰的(220)面的取向角度中在80°以上具有最大的峰值。
16.根據權利要求12~15中任一項所述的碳化鉭被覆碳材料的制造方法,其特征在于,所述碳化鉭被覆膜的X射線衍射圖形中的與(311)面和(220)面對應的衍射線的強度之和,相對于所述碳化鉭被覆膜的X射線衍射圖形中的與碳化鉭的全部晶面對應的衍射線的強度的總和為0.5以上且0.9以下。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





