[發明專利]具有工程顏料的保偏投影屏幕及其制造方法有效
| 申請號: | 201080064446.0 | 申請日: | 2010-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN102763035A | 公開(公告)日: | 2012-10-31 |
| 發明(設計)人: | J·彼得森;C·里奇;R·J·柳安多斯基;G·夏普;D·科爾曼 | 申請(專利權)人: | 瑞爾D股份有限公司;韋夫弗朗特技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G03B21/56 | 分類號: | G03B21/56;G03B35/24;G03B21/60 |
| 代理公司: | 北京嘉和天工知識產權代理事務所(普通合伙) 11269 | 代理人: | 嚴慎 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 工程 顏料 投影 屏幕 及其 制造 方法 | ||
1.一種用于提供投影屏幕的卷材散布方法,所述方法包括:
從載體基底剝離光學功能材料,其中,所述剝離使所述光學功能材料碎裂成單個的工程粒子;以及
將覆層分布到第二基底,以實現所述投影屏幕的基本上均質的光學外觀,其中所述覆層包括所述單個的工程粒子。
2.如權利要求1所述的方法,還包括制備基礎漫射體材料,其中所述基礎漫射體材料與所述光學功能材料相鄰。
3.如權利要求2所述的方法,其中制備所述基礎漫射體材料還包括保持預定容限,進一步地,其中所述預定容限至少基于長范圍統計特征與總體統計特征之間的差。
4.如權利要求2所述的方法,其中分布所述覆層提供基本上逼近所述基礎漫射體材料的表面的表面。
5.如權利要求1所述的方法,其中分布所述覆層可操作來基本上使粒子傾側統計特征對所述覆層的散射分布的作用最小化。
6.如權利要求1所述的方法,其中分布所述覆層還包括生成所述單個的工程粒子的密集疊堆,所述密集疊堆基本上位于在所述覆層的表面處的面內。
7.如權利要求1所述的方法,還包括對于所述單個的工程粒子保持高粒子特征比。
8.一種具有基本上均質的外觀的投影屏幕,其中所述基本上均質的外觀通過卷材散布來實現,所述投影屏幕包括:
基底;以及
與所述基底相鄰的覆層,所述覆層包括通過從載體基底剝離光學功能材料而創建的工程粒子,其中所述工程粒子可操作來主要確定光的散射行為。
9.如權利要求8所述的投影屏幕,其中所述載體基底是犧牲性載體基底。
10.如權利要求8所述的投影屏幕,其中所述工程粒子的形態可以可操作來主要從統計學上確定所述投影屏幕的宏觀散射行為。
11.如權利要求8所述的投影屏幕,其中所述覆層還包括可操作來使所述散射分布與所述投影屏幕的偏振對比率分離的表面。
12.如權利要求8所述的投影屏幕,其中所述光學功能材料使用漫射體來生成。
13.如權利要求12所述的投影屏幕,其中所述漫射體與所述載體基底相鄰。
14.如權利要求12所述的投影屏幕,其中所述光學功能材料還包括至少一第一光學覆層。
15.如權利要求14所述的投影屏幕,其中在從所述載體基底剝離所述光學功能材料之前所述第一光學覆層與所述漫射體相鄰。
16.如權利要求8所述的投影屏幕,其中所述光學功能材料還包括至少一第二光學覆層。
17.如權利要求16所述的投影屏幕,其中所述第二光學覆層是介電覆層。
18.如權利要求16所述的投影屏幕,其中在從所述載體基底剝離所述光學功能材料之前所述第二光學覆層與所述漫射體相鄰。
19.如權利要求14所述的投影屏幕,其中所述第一光學覆層是脫離層。
20.如權利要求8所述的投影屏幕,還包括反射層。
21.如權利要求20所述的投影屏幕,其中所述反射層基本上由鋁構成。
22.如權利要求20所述的投影屏幕,其中所述光學功能材料還包括與所述反射層相鄰的第三光學覆層。
23.如權利要求22所述的投影屏幕,其中所述第三光學覆層是介電覆層。
24.如權利要求8所述的投影屏幕,其中所述工程粒子還包括夾層結構,其中所述夾層結構包括在反射層的至少第一側的多個光學覆層。
25.如權利要求8所述的投影屏幕,其中所述工程粒子在預定尺寸范圍內。
26.如權利要求25所述的投影屏幕,其中如果所述工程粒子在所述預定尺寸范圍外,則重新調整所述工程粒子的尺寸。
27.如權利要求8所述的投影屏幕,還包括流體,其中所述流體與所述工程粒子組合。
28.如權利要求27所述的投影屏幕,其中與所述工程粒子組合的所述流體被沉積到基底上。
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