[發明專利]背面場型異質結太陽能電池及其制造方法無效
| 申請號: | 201080064209.4 | 申請日: | 2010-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN102763227A | 公開(公告)日: | 2012-10-31 |
| 發明(設計)人: | 梁秀美;盧星奉;宋錫鉉 | 申請(專利權)人: | 現代重工業株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/042 | 分類號: | H01L31/042 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 韓國蔚*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背面 場型異質結 太陽能電池 及其 制造 方法 | ||
1.一種背面場異質結太陽能電池,包括:
第一導電晶體硅基板;
本征層和第一導電非晶硅層,所述本征層和所述第一導電非晶硅層依次形成在所述基板的正面上;
防反射膜,所述防反射膜形成在所述第二導電非晶硅上;
第一導電結區域和第二導電結區域,所述第一導電結區域和所述第二導電結區域從所述基板的背面形成,直至進入所述基板中達到預先設定的深度;以及
第一導電電極和第二導電電極,所述第一導電電極和所述第二導電電極分別設置在所述第一導電結區域和所述第二導電結區域上,
其中所述第一導電電極和所述第二導電電極交替布置。
2.根據權利要求1所述的背面場異質結太陽能電池,進一步包括設置在所述第一導電非晶硅層和所述防反射膜之間的緩沖層。
3.一種背面場異質結太陽能電池的制造方法,所述方法包括以下步驟:
制備第一導電晶體硅基板;
在所述基板的背面中形成交替布置的第一導電結區域和第二導電結區域;
在所述基板的正面上依次層疊本征層和第一導電非晶硅層;
在所述第一導電非晶硅層上形成防反射膜;和
在所述第一導電結區域和所述第二導電結區域上分別形成第一導電電極和第二導電電極。
4.根據權利要求3所述的背面場異質結太陽能電池的制造方法,其中所述形成第一導電結區域或者第二導電結區域的步驟包括:
在所述基板的所述背面上形成印網掩膜,從而選擇性地暴露所述基板的將要被形成所述第一導電結區域或者所述第二導電結區域的區域;
將第一導電液體雜質或者第二導電液體雜質涂覆在所述基板的所述正面和所述印網掩模上;和
通過對所述基板進行熱處理來形成第一導電結區域或者第二導電結區域。
5.根據權利要求3所述的背面場異質結太陽能電池的制造方法,在所述形成防反射膜的步驟之前,該方法進一步包括以下步驟:
在所述第一導電非晶硅層上形成緩沖層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于現代重工業株式會社,未經現代重工業株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080064209.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





