[發(fā)明專利]改進(jìn)的多結(jié)點(diǎn)LED有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080064139.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-12-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102770976A | 公開(公告)日: | 2012-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | G·哈斯奈恩;S·D·萊斯特;S-y·胡;J·拉默 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 普瑞光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/44 | 分類號(hào): | H01L33/44;H01L33/36;H01L33/62 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 吳立明 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 改進(jìn) 結(jié)點(diǎn) led | ||
1.一種光源,包括:
一個(gè)基板;
一個(gè)發(fā)光結(jié)構(gòu),該發(fā)光結(jié)構(gòu)沉積在所述基板上;
一個(gè)屏障體,該屏障體將所述發(fā)光結(jié)構(gòu)分成第一和第二區(qū)段;
一個(gè)串聯(lián)電極,該串聯(lián)電極將所述第一區(qū)段與所述第二區(qū)段串聯(lián)連接在一起;以及
一個(gè)第一阻擋二極管,該第一阻擋二極管位于所述發(fā)光結(jié)構(gòu)與所述基板之間;在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)發(fā)光時(shí),所述第一阻擋二極管防止了電流在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)與所述基板之間流動(dòng),
其中所述屏障體延伸穿過所述發(fā)光結(jié)構(gòu)進(jìn)入所述第一阻擋二極管。
2.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述基板包括一個(gè)半導(dǎo)體材料的過渡層,該過渡層對(duì)于所述發(fā)光結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的光是透明的,并且其中所述屏障體包括延伸通過所述發(fā)光結(jié)構(gòu)并且終止于所述過渡層內(nèi)的一個(gè)溝道。
3.如權(quán)利要求1所述的光源,進(jìn)一步包括一個(gè)第二阻擋二極管,該第二阻擋二極管位于所述第一阻擋二極管與所述基板之間;在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)發(fā)光時(shí),所述第二阻擋二極管防止了電流在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)與所述基板之間流動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述串聯(lián)電極包括橫跨所述屏障體的多個(gè)隔離的導(dǎo)體。
5.如權(quán)利要求2所述的光源,其中所述屏障體基本上不阻礙在所述過渡層內(nèi)行進(jìn)的光。
6.如權(quán)利要求2所述的光源,其中所述串聯(lián)電極包括沉積在所述溝道內(nèi)的一個(gè)導(dǎo)電材料層,所述溝道具有一個(gè)絕緣層,該絕緣層防止了所述導(dǎo)電材料層直接與暴露在所述溝道內(nèi)的所述發(fā)光結(jié)構(gòu)的多個(gè)壁相接觸。
7.如權(quán)利要求2所述的光源,包括一個(gè)絕緣層,該絕緣層位于處在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)上方的所述串聯(lián)電極的一部分之下。
8.如權(quán)利要求1所述的光源,其中所述半導(dǎo)體材料包括來自所述GaN材料族的多種材料。
9.一種用于制造光源的方法,所述方法包括:
在一個(gè)基板上沉積一個(gè)過渡層,該過渡層包括一種具第一導(dǎo)電性類型的半導(dǎo)體材料;
在所述過渡層上沉積一個(gè)具相反導(dǎo)電性類型的阻擋二極管層;
在所述阻擋二極管層上沉積一個(gè)發(fā)光結(jié)構(gòu);
產(chǎn)生一個(gè)屏障體,該屏障體將所述發(fā)光結(jié)構(gòu)分成第一和第二區(qū)段;并且
沉積一個(gè)串聯(lián)電極,該串聯(lián)電極將所述第一和第二基板串聯(lián)連接,其中所述屏障體延伸通過所述發(fā)光結(jié)構(gòu)進(jìn)入所述第一阻擋二極管層,所述阻擋二極管層在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)產(chǎn)生光時(shí)防止了電流從所述發(fā)光結(jié)構(gòu)流入所述基板。
10.如權(quán)利要求9所述的方法,其中所述屏障體是通過蝕刻出一個(gè)延伸通過所述發(fā)光結(jié)構(gòu)到達(dá)所述過渡層但是未到達(dá)所述基板的溝道來產(chǎn)生的。
11.如權(quán)利要求10所述的方法,其中沉積所述串聯(lián)電極包括:在所述溝道內(nèi)沉積一個(gè)絕緣層,并且在所述溝道內(nèi)在所述絕緣層上沉積一個(gè)導(dǎo)電材料層,所述絕緣層防止了所述導(dǎo)電材料層直接與暴露在所述溝道內(nèi)的所述發(fā)光結(jié)構(gòu)的多個(gè)壁相接觸。
12.如權(quán)利要求10所述的方法,其中所述絕緣層位于處在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)上方的所述串聯(lián)電極的一部分之下。
13.如權(quán)利要求9所述的方法,其中所述基板半導(dǎo)體層包括具有所述相反導(dǎo)電性類型的多個(gè)層,這些層被安排成使得所述多個(gè)層在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)產(chǎn)生光時(shí)包括多個(gè)串聯(lián)連接的相反偏壓的二極管。
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