[發(fā)明專利]硬成像設(shè)備和硬成像設(shè)備操作方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080062312.5
• 申請(qǐng)日: 2010-01-25
• 公開（公告）號(hào): CN102712200A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: N.J.萊奧尼;O.吉拉;M.H.李
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 惠普發(fā)展公司;有限責(zé)任合伙企業(yè)
• 主分類號(hào): B41J29/38
• 分類號(hào): B41J29/38;B41J2/175
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 馬紅梅;盧江

1.一種硬成像設(shè)備，其包括：

筆30，其鄰近于介質(zhì)路徑16的第一位置，且被配置成在朝著沿著所述介質(zhì)路徑16移動(dòng)的介質(zhì)22的方向上噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴32以便使用所述介質(zhì)22形成硬圖像，從所述筆30噴射所述液體標(biāo)記劑的所述微滴32產(chǎn)生了所述液體標(biāo)記劑的浮質(zhì)微滴34；以及

氣體注入系統(tǒng)50，其鄰近于所述介質(zhì)路徑16的第二位置，其在相對(duì)于沿著所述介質(zhì)路徑16的所述介質(zhì)22的移動(dòng)方向而言從所述第一位置起的下游，并且其中所述氣體注入系統(tǒng)50被配置成朝著所述介質(zhì)注入氣體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述氣體注入系統(tǒng)被配置成注入所述氣體以提供與缺少所述注入的氣體相比在所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34的減少的污染。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括加熱器64，其被配置成提供熱以減少在所述至少一個(gè)部件40上的蒸汽的冷凝。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70，其被定位在從所述第一位置起的下游的另一位置處，且被配置成從鄰近于所述介質(zhì)路徑16的區(qū)域去除所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述氣體的所述注入產(chǎn)生至少一個(gè)界線層24或25，其阻止所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些的移動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述氣體的注入在所述介質(zhì)路徑16和所述硬成像設(shè)備的至少一個(gè)部件40之間產(chǎn)生第一和第二界線層24,25，并且與缺少所述注入的氣體相比，所述第一和第二界線層減少了在所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34的污染。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述氣體注入系統(tǒng)50以及所述筆30被定位在鄰近于所述介質(zhì)路徑16的共同側(cè)，并且所述氣體注入系統(tǒng)50被定位在緊鄰近于在所述第一位置處的所述筆30的所述第二位置處。

8.一種硬成像設(shè)備，其包括：

筆30，其鄰近于介質(zhì)路徑16的第一位置，且被配置成在朝著沿著所述介質(zhì)路徑16移動(dòng)的介質(zhì)22的方向上噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴32以便使用所述介質(zhì)22形成硬圖像；以及

氣體注入系統(tǒng)50，其鄰近于所述介質(zhì)路徑16的第二位置，其在相對(duì)于沿著所述介質(zhì)路徑16的所述介質(zhì)22的移動(dòng)方向而言從所述第一位置起的下游，并且所述氣體注入系統(tǒng)50被配置成注入氣體以產(chǎn)生鄰近于所述介質(zhì)路徑16的至少一個(gè)界線層24或25。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述微滴32的噴射產(chǎn)生所述液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴34，并且所述氣體注入系統(tǒng)50被配置成注入所述氣體以產(chǎn)生所述至少一個(gè)界線層24或25，以提供與缺少所述注入的氣體相比在從所述筆30起的下游的所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34的減少的污染。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70，其被定位在從所述第一位置起的下游的位置處，且被配置成從鄰近于所述介質(zhì)路徑22的區(qū)域去除所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述微滴32的所述噴射產(chǎn)生所述液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴34，并且所述至少一個(gè)界線層24或25阻止所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些的移動(dòng)。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述氣體的所述注入產(chǎn)生鄰近于所述介質(zhì)路徑16的多個(gè)界線層24，25。

13.一種硬成像設(shè)備操作方法，其包括：

沿著介質(zhì)路徑16移動(dòng)介質(zhì)22；

在沿著所述介質(zhì)路徑16的第一位置處，在朝著所述介質(zhì)22的方向上噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴32以便使用所述介質(zhì)22形成硬圖像，所述噴射產(chǎn)生了所述液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴34；以及

在沿著所述介質(zhì)路徑16的、在相對(duì)于沿著所述介質(zhì)路徑16的所述介質(zhì)22的移動(dòng)方向而言從所述第一位置起的下游的第二位置處，朝著所述介質(zhì)路徑16注入氣體，以減少與缺少所述氣體的注入相比由在所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34產(chǎn)生的污染。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，進(jìn)一步包括，在從所述第一位置起的下游的另一位置處，從鄰近于所述介質(zhì)路徑16的區(qū)域去除所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述注入所述氣體產(chǎn)生至少一個(gè)界線層24或25，其阻止所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些移動(dòng)到所述至少一個(gè)部件40。