[發明專利]具有不同書寫共聚單體的光聚合物制劑

有效

• 申請號: 201080060489.1
• 申請日: 2010-11-02
• 公開（公告）號: CN102667935A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發明（設計）人: M-S.魏澤;F-K.布魯德;T.羅勒;T.費克;D.赫內爾;J.霍夫曼
• 申請（專利權）人: 拜爾材料科學股份公司
• 主分類號: G11B7/245
• 分類號: G11B7/245;C08G18/28;G03F7/027;G03H1/00;G11B7/24
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 石克虎;林森

1.?光聚合物制劑，其包含基質聚合物、至少兩種不同的書寫單體的組合和光引發劑，其中所述基質聚合物是聚氨酯，其特征在于所述書寫單體各自在405納米波長下測得的折射率n_D²⁰相差不大于0.200，并在每一情況下具有≥?1.45的在405納米波長測得的折射率n_D²⁰。

2.?根據權利要求1的光聚合物制劑，其特征在于所述書寫單體各自在405納米波長下測得的折射率n_D²⁰相差不大于0.100，特別是不大于0.065，并在每一情況下具有≥?1.50，特別優選≥?1.55的在405納米波長測得的折射率n_D²⁰。

3.?根據權利要求1或2的光聚合物制劑，其特征在于所述書寫單體是丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯，優選氨基甲酸酯丙烯酸酯和/或氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯。

4.?根據權利要求3的光聚合物制劑，其特征在于所述書寫單體是單、二、三和/或更多官能的。

5.?根據權利要求4的光聚合物制劑，其特征在于其含有單官能和多官能，特別是二或三官能書寫單體的組合，或二和三官能書寫單體的組合。

6.?根據權利要求1至5任一項的光聚合物制劑，其特征在于所述基質聚合物是能通過使異氰酸酯組分a)與異氰酸酯反應性組分b)反應獲得的聚氨酯。

7.?根據權利要求1至6任一項的光聚合物制劑，其特征在于所述光引發劑是能通過光化輻射活化的引發劑。

8.?根據權利要求1至7任一項的光聚合物制劑，其特征在于其含有增塑劑。

9.?根據權利要求8的光聚合物制劑，其特征在于所述增塑劑是氨基甲酸酯和/或氟代氨基甲酸酯。

10.?根據權利要求9的光聚合物制劑，其特征在于所述氨基甲酸酯具有通式IV

?式IV

其中n≥1且n≤8和R³、R⁴、R⁵是氫和/或彼此獨立地，未取代或任選也被雜原子取代的線型、支化、環狀或雜環有機殘基，其中優選地，基團R³、R⁴、R⁵的至少一個被至少一個氟原子取代，且R³特別優選是具有至少一個氟原子的有機殘基。

11.?根據權利要求1至10任一項的光聚合物制劑，其特征在于其含有10至89.999重量%，優選25至70重量%的基質聚合物、10至60重量%，優選25至50重量%的書寫單體、0.001至5重量%的光引發劑和任選0至4重量%，優選0至2重量%的催化劑、0至5重量%，優選0.001至1重量%的自由基穩定劑、0至30重量%，優選0至25重量%的增塑劑和0至5重量%，優選0.1至5重量%的其它添加劑，所有成分的總和為100重量%。

12.?根據權利要求1至11任一項的光聚合物制劑用于制造光學元件，特別是用于制造全息元件和圖像的用途。

13.?根據權利要求1至12任一項的光聚合物制劑的制備方法，其中混合基質聚合物、書寫單體、光引發劑、任選的增塑劑和任選的其它添加劑以產生光聚合物制劑。

14.?使根據權利要求1至11任一項的光聚合物制劑的全息介質曝光的方法，其中通過電磁輻射使所述書寫單體選擇性聚合。