[發明專利]制造圖案化干燥聚合物的方法和圖案化干燥聚合物

無效

• 申請號: 201080060129.1
• 申請日: 2010-10-18
• 公開（公告）號: CN102695990A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發明（設計）人: J.科迪;A.喬治亞迪斯
• 申請（專利權）人: 薩里大學
• 主分類號: G03F7/26
• 分類號: G03F7/26;G03F7/36;B41C1/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王國祥

1.由聚合物溶液或聚合物分散體制造圖案化干燥聚合物的方法，所述方法包括以下步驟：將掩模置于所述聚合物溶液/分散體上方，使得存在聚合物溶液/分散體暴露區域和聚合物溶液/分散體未暴露區域，并用紅外射線輻射所述掩蔽的聚合物溶液/分散體。

2.權利要求1的方法，其中所述圖案化干燥聚合物由呈膠乳形式的聚合物分散體制造。

3.權利要求2的方法，其中所述膠乳是T_g為20°C至100°C的硬膠乳。

4.權利要求2的方法，其中所述膠乳是T_g為-50°C至20°C的軟膠乳。

5.根據任一前述權利要求的方法，其中所述暴露條件使得所述聚合物的溫度高于它的玻璃化轉變溫度。

6.權利要求5的方法，其中所述暴露條件使得所述聚合物的溫度高于它的玻璃化轉變溫度至少15°C。

7.根據任一前述權利要求的方法，其中所述紅外射線的波長為0.7μm-30μm，更優選為0.7μm-1.8μm。

8.根據任一前述權利要求的方法，其中所述紅外射線的波長與聚合物具有最大吸收系數或水強烈吸收紅外射線的波長基本相同。

9.權利要求2-8中的任一項的方法，其中將掩蔽的膠乳暴露于所述紅外射線，直到所述膠乳完全干燥。

10.權利要求2-9中的任一項的方法，其中所述膠乳與紅外源的距離為1-100cm，更優選為5-30cm，并且最優選為15-20cm。

11.權利要求2-10中的任一項的方法，其中所述膠乳為涂層的形式，以及所述干燥涂層的厚度為0.5μm-1cm厚，更優選為2μm-1mm厚，并且最優選為10μm-300μm厚。

12.權利要求2-11中的任一項的方法，其中所述膠乳的固體含量為10重量%-80重量%，優選為30重量%-60重量%，并且最優選為45重量%-55重量%。

13.根據任一前述權利要求的方法，其中在所述膠乳和所述掩模之間的距離為0.01mm-10cm，優選為0.1mm-10mm，更優選為0.2-3mm。

14.根據任一前述權利要求的方法，其中所述掩模具有孔，所述孔的直徑為0.01mm-10cm，優選為0.1mm-1cm，并且更優選為0.5mm-5mm。

15.根據任一前述權利要求的方法，其中所述掩模具有孔，所述孔為正方形、圓形、橢圓形、三角形、矩形、菱形、多邊形或為標識語形狀。

16.根據任一前述權利要求的方法，其中所述掩模的尺寸為1mm-10m，優選為1cm-1m，并且最優選為1cm-20cm。

17.權利要求2-16中的任一項的方法，其中所述掩模完全覆蓋所述膠乳。

18.權利要求2-17中的任一項的方法，其中所述掩模由阻礙所述紅外射線傳輸的材料制成。

19.權利要求2-18中的任一項的方法，其中所述膠乳流延在由玻璃、鋼材、鋁、金屬合金、塑料、卡片或木材制成的基體上。

20.權利要求19的方法，當從屬于權利要求4時，其中將所述膠乳從所述基體除去以制造自立膜。

21.權利要求2-20中的任一項的方法，其中所述膠乳包含兩種或更多種膠乳的混合物，每種具有不同的平均粒度。

22.權利要求2-21中的任一項的方法，其中所述膠乳包含下列中的一種或多種：金屬納米粒子、半導體粒子、有色粒子、熒光粒子、另外的紅外吸收劑。

23.基本上如本申請所述或如實施例中所示的由聚合物溶液或聚合物分散體制造圖案化聚合物的方法。

24.通過權利要求1-23中的任一項的方法制備的圖案化干燥聚合物。

25.根據實施例中的任何一個的圖案化干燥聚合物。