[發明專利]太陽能電池單元的制造方法無效
| 申請號: | 201080059615.1 | 申請日: | 2010-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN102687284A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發明(設計)人: | 橋本敬宏 | 申請(專利權)人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/042 | 分類號: | H01L31/042;H01L31/0216;C01G23/053 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李偉;金世煜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 單元 制造 方法 | ||
1.一種太陽能電池單元的制造方法,包括在半導體基板(1)的一個主面上涂布含有金屬氧化物和金屬氧化物前體中的至少一者的防反射膜形成用溶液(5a)的工序、以及對涂布有所述防反射膜形成用溶液(5a)的所述半導體基板(1)進行加熱的工序,在涂布所述防反射膜形成用溶液(5a)的工序中,所述防反射膜形成用溶液(5a)在水含量為0g/m3~9.4g/m3的環境下涂布。
2.根據權利要求1所述的太陽能電池單元的制造方法,其中,所述防反射膜形成用溶液(5a)含有用于在所述半導體基板(1)上形成pn接合的摻雜劑。
3.根據權利要求1或2所述的太陽能電池單元的制造方法,其中,所述防反射膜形成用溶液(5a)含有用于在所述半導體基板(1)上形成n型摻雜劑擴散層(4)的摻雜劑。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的太陽能電池單元的制造方法,其中,在涂布所述防反射膜形成用溶液(5a)的工序中,所述防反射膜形成用溶液(5a)在所述環境含有干燥氣體(7)的環境下涂布。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的太陽能電池單元的制造方法,其中,在涂布所述防反射膜形成用溶液(5a)的工序中,一邊向所述環境中導入干燥氣體(7)一邊涂布所述防反射膜形成用溶液(5a)。
6.根據權利要求4或5所述的太陽能電池單元的制造方法,其中,所述干燥氣體(7)含有選自氧、氮、氦、氖、氬、氪、氙以及氡中的至少1種。
7.根據權利要求1~6中任一項所述的太陽能電池單元的制造方法,其中,所述防反射膜形成用溶液(5a)是含有烷氧基鈦的溶液。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





