[發(fā)明專利]衣物處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080057024.0
• 申請日: 2010-12-14
• 公開（公告）號: CN102656312A
• 公開（公告）日: 2012-09-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 樸恩用;李匡熙
• 申請（專利權(quán)）人: LG電子株式會社
• 主分類號: D06F58/10
• 分類號: D06F58/10
• 代理公司: 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 付永莉;鄭小軍

1.一種衣物處理設(shè)備，包括：

內(nèi)殼體，構(gòu)成盛放衣物的空間；

機器室，設(shè)置成與所述內(nèi)殼體分開；

空氣模塊基座，可附接/可拆卸地滑動安裝到所述機器室，用以支撐向所述內(nèi)殼體供應(yīng)空氣或熱氣的供氣單元；以及

蒸汽模塊基座，可附接/可拆卸地滑動安裝到所述機器室，用以支撐向所述內(nèi)殼體供應(yīng)蒸汽的蒸汽發(fā)生器。

2.如權(quán)利要求1所述的衣物處理設(shè)備，其中所述機器室設(shè)置到所述內(nèi)殼體的下部。

3.如權(quán)利要求2所述的衣物處理設(shè)備，還包括用于將所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座聯(lián)接在一起的基座聯(lián)接構(gòu)件。

4.如權(quán)利要求3所述的衣物處理設(shè)備，其中所述機器室還包括用于支撐所述基座聯(lián)接構(gòu)件的基座框架，以使所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座可滑動。

5.如權(quán)利要求4所述的衣物處理設(shè)備，其中所述基座框架還包括滑動導(dǎo)軌，所述滑動導(dǎo)軌為向上延伸部，而且

所述基座聯(lián)接構(gòu)件還包括用于接納所述滑動導(dǎo)軌的導(dǎo)軌接納肋。

6.如權(quán)利要求5所述的衣物處理設(shè)備，其中所述基座聯(lián)接構(gòu)件包括：

側(cè)本體，接觸所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座的外周表面；以及

基座緊固突出部，分別從所述側(cè)本體朝向所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座伸出；而且

所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座分別包括用于在其中接納所述基座緊固突出部的緊固突出部接納孔。

7.如權(quán)利要求6所述的衣物處理設(shè)備，其中所述基座聯(lián)接構(gòu)件還包括設(shè)置成從所述側(cè)本體彎曲的支撐體，用于支撐所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座的底部。

8.如權(quán)利要求6所述的衣物處理設(shè)備，其中所述導(dǎo)軌接納肋從所述側(cè)本體的外側(cè)表面延伸并朝向所述基座框架的方向彎曲。

9.如權(quán)利要求8所述的衣物處理設(shè)備，其中所述滑動導(dǎo)軌還分別在所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座被插入的方向上包括傾斜部。

10.如權(quán)利要求1所述的衣物處理設(shè)備，還包括外殼體，所述外殼體構(gòu)成所述衣物處理設(shè)備的外表并提供所述內(nèi)殼體和所述機器室形成在其中的空間，以及

所述外殼體包括用于選擇性地打開所述機器室的一側(cè)的機器室殼體。

11.如權(quán)利要求10所述的衣物處理設(shè)備，其中所述機器室殼體設(shè)置到所述機器室的后側(cè)。

12.如權(quán)利要求2所述的衣物處理設(shè)備，其中所述機器室還包括具有滑動導(dǎo)軌的基座框架，用于支撐所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座，而且

所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座還包括設(shè)置成接納所述滑動導(dǎo)軌的導(dǎo)軌接納肋。

13.如權(quán)利要求12所述的衣物處理設(shè)備，其中所述滑動導(dǎo)軌還分別在所述蒸汽模塊基座和所述空氣模塊基座被插入的方向上包括傾斜部。

14.如權(quán)利要求12所述的衣物處理設(shè)備，還包括外殼體，所述外殼體構(gòu)成所述衣物處理設(shè)備的外表并提供所述內(nèi)殼體和所述機器室形成在其中的空間，以及

所述外殼體包括用于選擇性地打開所述機器室的一側(cè)的機器室殼體。

15.如權(quán)利要求14所述的衣物處理設(shè)備，其中所述機器室殼體設(shè)置到所述機器室的后側(cè)。