[發(fā)明專利]利用結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件和聚焦光束的激光刻圖無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080056720.X | 申請日： | 2010-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN102656421A | 公開（公告）日： | 2012-09-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | A·Y·新井;吉野郁世 | 申請（專利權(quán)）人： | IMRA美國公司 |
| 主分類號： | G01B11/00 | 分類號： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京同恒源知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275 | 代理人： | 王維綺 |
| 地址： | 美國密*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 利用 結(jié)構(gòu) 光學(xué) 元件 聚焦 光束 激光 | ||
1.一種基于激光的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)用于將激光能量傳送至物體的至少一部分，所述系統(tǒng)包括：
激光源，所述激光源提供輸入光束；
光束定位器，所述光束定位器接收所述輸入光束并且產(chǎn)生移動激光束；
結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件，所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件被設(shè)置在所述激光源和所述物體之間，所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件被設(shè)置成接收所述移動光束并且可控制地照射所述物體的選定部分，所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件的一部分被設(shè)置成在所述物體上或物體內(nèi)形成輻照的圖案，并且所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件的一部分被設(shè)置成基本上阻止激光能量到達所述物體并且避免在所述光束相對于所述靶加速和/或減速的過程中過度曝光所述靶；
控制器，所述控制器被連接至至少所述光束定位器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述激光系統(tǒng)被設(shè)置成改變物體的材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述光束定位器被設(shè)置成控制移動激光束的位置和速度中的至少一個，以便通過燒蝕、融化、分裂、氧化和光學(xué)指數(shù)變化中的一種或多種改變所述物體的材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，還包括設(shè)置在所述光束定位器和所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件之間的聚焦元件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件包括與所述物體的預(yù)定區(qū)域相對應(yīng)的光阻擋、光傳輸、光衰減和偏振控制元件中的一個或多個，并且其中光阻擋、光傳輸、光衰減和偏振效應(yīng)僅在所述物體的預(yù)定區(qū)域內(nèi)發(fā)生。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述激光系統(tǒng)被設(shè)置成探測所述物體并且測量所述物體的物理、電學(xué)、光學(xué)和化學(xué)特性中的一個或多個。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，還包括調(diào)制器以便控制所述激光源的輸出。
8.一種方法，所述方法包括：操作根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于激光的系統(tǒng)以便改變或探測物體。
9.一種產(chǎn)品，所述產(chǎn)品具有形成在所述產(chǎn)品的一部分上或所述產(chǎn)品的一部分內(nèi)的空間圖案，所述空間圖案利用權(quán)利要求5所述的方法形成。
10.一種基于激光的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)用于將激光能量傳送至物體的至少一部分，所述系統(tǒng)包括：
激光源，所述激光源提供輸入光束；
光束定位器，所述光束定位器接收所述輸入光束并且產(chǎn)生移動激光束；
結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件，所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件被設(shè)置在所述激光源和所述物體之間，所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件被設(shè)置成接收所述移動光束并且可控制地照射所述物體的選定部分，所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件的一部分被設(shè)置成在所述物體上或物體內(nèi)形成輻照的圖案，并且所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件的一部分被設(shè)置成基本上阻止激光能量到達所述物體并避免在所述光束相對于所述靶加速和/或減速的過程中過度曝光所述靶；
聚焦光學(xué)器件，所述聚焦光學(xué)器件被設(shè)置在所述光束定位器和所述投影掩膜之間的光學(xué)路徑中，以提供來自所述激光源的聚焦輸出光束；
第一致動器，所述第一致動器用于定位所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件；
第二致動器，所述第二致動器用于定位所述物體；
控制器，所述控制器連接至所述光束定位器、所述第二致動器、所述第一致動器和所述激光源中的一個或多個，以便通過來自所述激光源的所述聚焦輸出光束在所述物體上產(chǎn)生激光照射的預(yù)定圖案，其中通過所述光束定位器的移位、所述物體的運動、所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件的運動和所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件上或所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件內(nèi)的圖案限定所述物體上的圖案。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于激光的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括設(shè)置在所述源和所述物體之間的光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)包括在與所述源和所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件共同的光學(xué)路徑中的一個或多個光學(xué)部件。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基于激光的系統(tǒng)，其中所述一個或多個光學(xué)部件包括鏡、光學(xué)衰減濾光器、空間光調(diào)制器和波片中的一個或多個。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基于激光的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括設(shè)置在所述源和所述物體之間的光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)包括在與所述源和所述結(jié)構(gòu)化光學(xué)元件共同的光學(xué)路徑中的一個或多個光學(xué)部件。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基于激光的系統(tǒng)，其中所述一個或多個光學(xué)部件包括鏡、光學(xué)衰減濾光器、空間光調(diào)制器和波片中的一個或多個。
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