[發(fā)明專利]鎂合金構(gòu)件無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080056141.5 | 申請(qǐng)日: | 2010-12-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102791894A | 公開(公告)日: | 2012-11-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 水野修;奧田伸之;森宏治;山川真弘;西澤正行;杉原崇康 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 住友電氣工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C22C23/02 | 分類號(hào): | C22C23/02;B21B3/00;B22D11/00;C22F1/06;C23C22/22;C22F1/00 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 陳海濤;穆德駿 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鎂合金 構(gòu)件 | ||
1.一種鎂合金構(gòu)件,其包含:含有超過(guò)7.5質(zhì)量%的Al的鎂合金基材;和通過(guò)化學(xué)轉(zhuǎn)化處理在所述基材的表面上形成的抗腐蝕層,
其中所述基材含有分散在其中的析出物粒子,
所述析出物粒子的平均粒度為0.05μm~1μm,
在所述鎂合金構(gòu)件的橫斷面中所述析出物粒子的總面積占所述橫斷面的1%~20%,且
所述抗腐蝕層包含與所述基材相鄰的下亞層和在所述下亞層的上面形成的表面亞層,所述表面亞層比所述下亞層更致密。
2.如權(quán)利要求1所述的鎂合金構(gòu)件,其中所述析出物粒子包含由含有Al和Mg中的至少一種元素的金屬間化合物制成的粒子。
3.如權(quán)利要求1或2所述的鎂合金構(gòu)件,
其中在所述鎂合金構(gòu)件的橫斷面的顯微圖像中,相對(duì)于具有256灰度等級(jí)的抗腐蝕層,
所述表面亞層具有6~10灰度等級(jí)的色散,且
所述下亞層具有13~17灰度等級(jí)的色散。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的鎂合金構(gòu)件,其中所述抗腐蝕層具有50nm~300nm的總厚度。
5.如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的鎂合金構(gòu)件,其中所述抗腐蝕層主要由鎂和鈣的磷酸鹽化合物構(gòu)成。
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