[發明專利]噴霧冷卻裝置、熱處理裝置以及噴霧冷卻方法無效
| 申請號： | 201080055851.6 | 申請日： | 2010-12-10 |
| 公開（公告）號： | CN102639725A | 公開（公告）日： | 2012-08-15 |
| 發明（設計）人： | 勝俁和彥;上田亞實;工藤晉也;島田嵩久 | 申請（專利權）人： | 株式會社IHI;IHI機械系統股份有限公司 |
| 主分類號： | C21D1/00 | 分類號： | C21D1/00;C21D1/667 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 張雨;楊楷 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 噴霧 冷卻 裝置 熱處理 以及 方法 | ||
【權利要求書】：
1.?一種噴霧冷卻裝置，對加熱后的被處理物噴射冷卻用噴霧以進行冷卻，其特征在于，
該噴霧冷卻裝置具有：
第一噴嘴，其噴射冷卻用噴霧；以及
第二噴嘴，其噴射粒徑比從上述第一噴嘴噴射的冷卻用噴霧的粒徑小的冷卻用噴霧。
2.?根據權利要求1所述的噴霧冷卻裝置，其特征在于，
上述第一噴嘴和上述第二噴嘴擴散地噴射冷卻用噴霧，
上述第一噴嘴中的冷卻用噴霧的擴散角比上述第二噴嘴中的冷卻用噴霧的擴散角窄。
3.?根據權利要求1或2所述的噴霧冷卻裝置，其特征在于，
該噴霧冷卻裝置具有控制部，該控制部根據上述被處理物的冷卻模式分別控制上述第一噴嘴和上述第二噴嘴的各噴射量。
4.?根據權利要求3所述的噴霧冷卻裝置，其特征在于，
上述控制部根據上述被處理物的冷卻模式，在上述第一噴嘴和上述第二噴嘴之間切換冷卻用噴霧的噴射。
5.?一種熱處理裝置，對被處理物進行熱處理，其特征在于，
該熱處理裝置具有權利要求1所述的噴霧冷卻裝置。
6.?一種噴霧冷卻方法，對加熱后的被處理物噴射冷卻用噴霧以進行冷卻，其特征在于，
該噴霧冷卻方法具有使用第一噴嘴和第二噴嘴冷卻上述被處理物的冷卻工序，所述第一噴嘴噴射冷卻用噴霧，所述第二噴嘴噴射粒徑比從上述第一噴嘴噴射的冷卻用噴霧的粒徑小的冷卻用噴霧。
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