[發明專利]基于2-烷氧基-4-烷基酮酚化合物的光防護組合物;所述化合物用于提高防曬系數的用途在審
| 申請號: | 201080055789.0 | 申請日: | 2010-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN103002865A | 公開(公告)日: | 2013-03-27 |
| 發明(設計)人: | C.馬里翁;G.勒爾布爾 | 申請(專利權)人: | 萊雅公司 |
| 主分類號: | A61K8/35 | 分類號: | A61K8/35;A61Q17/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黃念;楊思捷 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 烷氧基 烷基 化合物 防護 組合 用于 提高 防曬 系數 用途 | ||
本發明涉及旨在保護皮膚和/或頭發以防紫外線輻射的流體組合物,其特征在于下述事實:即其在化妝品可接受的水性載體中包含至少:
(a)一種能夠屏蔽紫外線(UV)輻射的光防護體系;和
(b)一種2-烷氧基-4-烷基酮酚(2-alkoxy-4-alkyl?ketone?phenol)化合物。
本發明還涉及2-烷氧基-4-烷基酮酚化合物在于化妝品可接受介質中包含至少一種能夠屏蔽UV輻射的光防護體系的組合物中的用途。
已知的是,波長在280納米至400納米之間的光輻射能曬黑人表皮,波長在280至320納米之間的射線(被稱作UV-B射線)造成皮膚曬傷和紅斑,這可能危害自然曬黑的進展;因此應屏蔽這種UV-B輻射。
同樣已知的是,波長在320至400納米之間的UV-A射線(其造成皮膚變黑)容易引起皮膚的損傷,尤其是在敏感皮膚或持續暴露在太陽輻射中的皮膚的情況下。UV-A射線特別造成皮膚彈性損失和皺紋出現,以致過早老化。它們促進紅斑反應的發作或在某些個體中加重這種反應,甚至可能是光毒性或光過敏反應的起因。因此屏蔽UV-A輻射也是合意的。
迄今已經提出許多皮膚光防護(UV-A和/或UV-B)化妝品組合物。最特別追尋易于使用者涂施到皮膚上的流體制劑。
這些防曬流體組合物通常是水包油型乳液形式(即由水性分散用連續相和油性分散不連續相構成的化妝品可接受載體),其以各種濃度含有一種或多種能夠選擇性吸收有害紫外線輻射的標準親脂和/或親水的有機屏蔽劑,根據所需防曬系數(sun?protection?factor)選擇這些屏蔽劑(及其量),防曬系數(SPF)在算術上由使用該紫外線屏蔽劑時達到致紅閾值(erythema-forming?threshold)所需的紫外線輻射劑量與無紫外線屏蔽劑時達到致紅閾值所需的紫外線輻射劑量的比率表示。
因此,仍然非常需要找到具有足夠高的防護系數的防曬產品。可通過以高濃度摻入更多屏蔽劑來實現高防護系數。盡管添加大量屏蔽劑,這并非總是可實現。此外,這樣的量可能損害舒適性(發粘(tacky)、粗糙效果和/或油膩效果)。
在上文提到的光防護領域中進行的大量研究后,申請人現在已經發現,令人驚訝地,在含有至少一種紫外線輻射屏蔽體系的組合物中添加2-烷氧基-4-烷基酮酚化合物可以提高其光防護效力,特別是其防曬系數。
這一發現構成本發明的基礎。
因此,根據本發明的第一主題,提出用于保護皮膚和/或頭發以防紫外線輻射的新型流體組合物,其特征在于下述事實:即它們在化妝品可接受的水性載體中包含至少:
(a)一種能夠屏蔽紫外線輻射的光防護體系,其由一種或多種親水、親脂或不可溶的有機屏蔽劑和/或一種或多種可涂布或不涂布的金屬氧化物顏料構成;
(b)至少一種2-烷氧基-4-烷基酮酚化合物。
根據本發明,術語“能夠屏蔽紫外線輻射的光防護體系”通常意在表示經由UV-A和/或UV-B輻射的本身已知的吸收和/或反射和/或散射機制能夠防止或至少限制所述輻射與已在其上施加了這種或這些化合物的表面(皮膚或頭發)接觸的任何化合物或任何化合物組合。換言之,這些化合物可以是吸收UV的光防護有機屏蔽劑或散射UV和/或反射UV的礦物顏料,及其混合物。
術語“化妝品可接受”是指與皮膚和/或其體被(integument)相容,其具有合意的顏色、氣味和觸感并且不會造成容易阻礙消費者使用這種組合物的任何不可接受的不適(刺痛感、緊繃感或發紅)。
本發明的另一主題是至少一種2-烷氧基-4-烷基酮酚化合物在流體組合物中用于高防曬系數(SPF)的用途,所述組合物在化妝品可接受載體中包含至少一種由一種或多種親水、親脂或不可溶的有機屏蔽劑和/或一種或多種可涂布或不涂布的金屬氧化物顏料構成的能夠屏蔽紫外線輻射的光防護體系。
在閱讀下列詳述時,會看出本發明的其它特征、方面和優點。
本發明的2-烷氧基-4-烷基酮酚化合物優選選自符合下式(I)的那些:
其中
-?R1代表(飽和)直鏈C1-C4烷基,優選甲基或乙基;
-?R2代表氫原子或(飽和)直鏈C1-C4烷基,優選甲基或乙基;
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