[發(fā)明專利]輪胎形狀檢查方法以及輪胎形狀檢查裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080055305.2 | 申請日: | 2010-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN103038601A | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高橋英二;迫田尚和;辻敏之;武田玄;村上將雄 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社神戶制鋼所 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24;B60C19/00;G01N21/88 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 雒運樸 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 輪胎 形狀 檢查 方法 以及 裝置 | ||
1.一種輪胎形狀檢查方法,其特征在于:使用樣品輪胎的側(cè)壁面的圖像,對檢查輪胎的側(cè)壁面的形狀缺陷進行檢查,所述樣品輪胎的側(cè)壁面形成有凹凸標(biāo)記,其中,所述輪胎形狀檢查方法包括:示教作業(yè)工序以及檢查作業(yè)工序,其中,
所述示教作業(yè)工序包括:
屏蔽圖像生成工序,從樣品原圖像中檢測界線,生成表示所述界線的位置的屏蔽圖像,其中,所述樣品原圖像為所述樣品輪胎的側(cè)壁面的二維圖像,所述界線為所述凹凸標(biāo)記的輪廓;以及
高度偏移圖像生成工序,生成表示所述凹凸標(biāo)記的高度的高度偏移圖像,所述高度偏移圖像為通過使用離散的多個高度閾值,對從所述樣品原圖像中去除與所述屏蔽圖像所示的所述界線的位置相對應(yīng)的區(qū)域之后的剩余區(qū)域的高度進行分類而獲得的圖像,
所述檢查作業(yè)工序包括:
差值處理工序,從作為所述檢查輪胎的側(cè)壁面的二維圖像的檢查圖像減去所述高度偏移圖像,以便從所述檢查圖像去除所述凹凸標(biāo)記而生成凹凸去除圖像;以及
形狀缺陷檢查工序,基于所述凹凸去除圖像,對檢查輪胎的側(cè)壁面的形狀缺陷進行檢查。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪胎形狀檢查方法,其特征在于:
在所述屏蔽圖像生成工序,通過使用微分濾波器,獲取強調(diào)所述凹凸標(biāo)記的所述界線部分的微分圖像,并對所獲得的所述微分圖像采用指定的閾值,將所述微分圖像二值化,從而生成所述屏蔽圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輪胎形狀檢查方法,其特征在于:
在使用所述微分濾波器之前,對所述樣品原圖像內(nèi)的未檢測點進行插值而去除所述未檢測點,基于所述側(cè)壁面的輪廓形狀,從已去除所述未檢測點的圖像中去除側(cè)壁面的彎曲成分,將已去除所述未檢測點的圖像平面化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪胎形狀檢查方法,其特征在于:
在所述高度偏移圖像生成工序,使用所述樣品原圖像、所述屏蔽圖像、以及對所述凹凸標(biāo)記所設(shè)定的所述離散的多個高度閾值,對于所述樣品原圖像的全部線數(shù)據(jù)反復(fù)進行以下的(I)至(V)的步驟,生成高度偏移圖像,
(I)從所述屏蔽圖像抽出與沿所述樣品原圖像的輪胎圓周方向的一個線數(shù)據(jù)相對應(yīng)的線數(shù)據(jù),
(II)在所述樣品原圖像的1線數(shù)據(jù)中,將以從屏蔽圖像所抽出的所述線數(shù)據(jù)所示的界線劃分的各區(qū)域分別設(shè)為一個標(biāo)簽區(qū)域,
(III)將多個所述標(biāo)簽區(qū)域中在圓周方向上最長的標(biāo)簽區(qū)域設(shè)為高度偏移值的計算開始區(qū)域,或者將以所述屏蔽圖像所示的界線所包圍的區(qū)域中面積最大的區(qū)域設(shè)為高度偏移值的計算開始區(qū)域,
(IV)在從所述計算開始區(qū)域依次排列的所述多個標(biāo)簽區(qū)域中,從包含所述計算開始區(qū)域的區(qū)域?qū)﹂_始,依次求出由彼此相鄰的標(biāo)簽區(qū)域構(gòu)成的區(qū)域?qū)χ械臉?biāo)簽區(qū)域之間的高度差,
(V)在所述離散的多個高度閾值中,將最接近各區(qū)域?qū)Φ乃龈叨炔畹母叨乳撝翟O(shè)定為構(gòu)成各區(qū)域?qū)Φ囊粚?biāo)簽區(qū)域中排列順序在后的標(biāo)簽區(qū)域的高度偏移值。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輪胎形狀檢查方法,其特征在于:
在所述高度偏移圖像生成工序,使所述屏蔽圖像與所述高度偏移圖像疊合,按每個以所述屏蔽圖像所示的界線所包圍的區(qū)域,將在區(qū)域內(nèi)數(shù)目最多的高度偏移值設(shè)定為該區(qū)域整體的高度偏移值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪胎形狀檢查方法,其特征在于:
在所述高度偏移圖像生成工序,抽出沿所述樣品原圖像的輪胎圓周方向的線數(shù)據(jù),復(fù)制被抽出的所述線數(shù)據(jù)并朝輝度高度方向移位,由此生成復(fù)制線,以表示所抽出的所述線數(shù)據(jù)的凹凸標(biāo)記部以外的低頻成分的曲線與表示所移位的復(fù)制線的凹凸標(biāo)記部的低頻成分的曲線大致連續(xù)的方式使所述復(fù)制線數(shù)據(jù)移位,并決定此時的移位量,將所述移位量設(shè)為所述離散的高度閾值。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輪胎形狀檢查方法,其特征在于:
在所述高度偏移圖像生成工序,將由所述樣品輪胎的設(shè)計圖或模具CAD數(shù)據(jù)所得的所述凹凸標(biāo)記的高度尺寸數(shù)值、或者所述樣品輪胎的凹凸標(biāo)記的高度尺寸的實測值設(shè)為所述離散的高度閾值。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的輪胎形狀檢查方法,其特征在于:
所述檢查作業(yè)工序還包括插值工序,在所述差值處理工序所得的圖像內(nèi),對于用該差值處理工序中所使用的屏蔽圖像屏蔽的屏蔽范圍,插入高度坐標(biāo)值。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社神戶制鋼所,未經(jīng)株式會社神戶制鋼所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080055305.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





