[發(fā)明專利]熔融玻璃傳送和精煉系統(tǒng)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080054313.5 | 申請(qǐng)日: | 2010-10-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102639453A | 公開(公告)日: | 2012-08-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | B·A·普爾諾德;W·W·托特;S·米格頓;S·卡杜爾;D·J·貝克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | OCV智識(shí)資本有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | C03B5/225 | 分類號(hào): | C03B5/225;C03B18/02;C03B5/16 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 錢亞卓 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熔融 玻璃 傳送 精煉 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
通常,本發(fā)明涉及熔融玻璃的精煉,尤其涉及用于將熔融玻璃供料精煉和向下游傳送到玻璃形成設(shè)備的方法和系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在玻璃制造工業(yè)中已知采用浸沒燃燒以熔化玻璃。在浸沒燃燒中,燃燒氣體被噴射到玻璃熔池的表面之下且被允許向上滲濾通過熔融物。這種方法的優(yōu)勢(shì)是被加熱的材料與燃燒氣體密切接觸,從而產(chǎn)生直接和有效的熱交換率。另一優(yōu)勢(shì)是氣體噴射到熔融物中產(chǎn)生在融化處理中有益的高度攪拌。
然而,浸沒燃燒處理將大量氣體噴射到熔融玻璃中,結(jié)果導(dǎo)致具有低密度的起泡玻璃。因而,該領(lǐng)域中有改進(jìn)用于將熔融玻璃供料精煉和向下游傳送到玻璃形成設(shè)備的方法和系統(tǒng)的需要。
發(fā)明內(nèi)容
主要的創(chuàng)新概念包括改進(jìn)的用于將熔融玻璃供料精煉和向下游傳送到玻璃形成設(shè)備的方法。所述方法包括在熔化器中熔化玻璃供料和排出熔融玻璃流。提供精煉部以精煉由所述熔化器排出的熔融玻璃且將熔融玻璃向下游傳送到玻璃形成設(shè)備。將所述精煉部移動(dòng)成與熔融玻璃流接觸和不與熔融玻璃流接觸,以使玻璃形成設(shè)備與熔融玻璃流連接和不連接。
在另一實(shí)施例中,該方法包括在熔化器中熔化玻璃供料以提供熔融玻璃,其中熔化處理在熔融玻璃內(nèi)產(chǎn)生氣體包含物。提供精煉部以接收具有氣體包含物的熔融玻璃且精煉熔融玻璃。將具有氣體包含物的熔融玻璃流從熔化器排出。精煉具有氣體包含物的熔融玻璃流,從而建立范圍從具有高濃度氣體包含物的熔融玻璃到具有低濃度氣體包含物的熔融玻璃的梯度。
本發(fā)明還涉及改進(jìn)的用于將熔融玻璃供料精煉且向下游傳送到玻璃形成設(shè)備的設(shè)備。該設(shè)備包括用于生產(chǎn)熔融玻璃供料的熔化器。所述熔化器包括被構(gòu)造成從熔化器排出熔融玻璃流的排出噴口。精煉部被構(gòu)造成接收和精煉熔融玻璃且將熔融玻璃向下游傳送到玻璃形成設(shè)備。所述精煉部被安裝用于移動(dòng)成與熔融玻璃流接觸和不與熔融玻璃流接觸。如此,當(dāng)所述精煉部與熔融玻璃流接觸時(shí)熔融玻璃行進(jìn)通過所述精煉部,當(dāng)所述精煉部不與熔融玻璃流接觸時(shí),熔融玻璃繞過所述精煉部。
在另一實(shí)施例中,設(shè)備包括用于產(chǎn)生具有氣體包含物的熔融玻璃供料的熔化器。所述熔化器包括被構(gòu)造成排出具有氣體包含物的熔融玻璃流的排出噴口。精煉部被構(gòu)造成接收具有氣體包含物的熔融玻璃流且精煉熔融玻璃,從而建立范圍從具有高濃度氣體包含物的熔融玻璃到具有低濃度氣體包含物的熔融玻璃的梯度。所述精煉部進(jìn)一步被構(gòu)造成將具有低濃度氣體包含物的熔融玻璃向下游傳送到玻璃形成設(shè)備。
當(dāng)根據(jù)附圖閱讀時(shí),對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,從以下示范性實(shí)施例的詳細(xì)描述中,本發(fā)明的各種目的和優(yōu)勢(shì)將是顯而易見的。
附圖說明
圖1是根據(jù)一個(gè)示范性實(shí)施例用于將來自熔化器的熔融玻璃供料傳送到玻璃形成設(shè)備的系統(tǒng)的側(cè)剖視圖。
圖2是在精煉部移動(dòng)到接收從熔化器排出的熔融玻璃流的位置之前,圖1中示出的精煉部的側(cè)剖視圖。
圖3是圖1中示出的精煉部處于接收從熔化器排出的熔融玻璃流的位置的側(cè)剖視圖。
圖4是圖2和圖3中示出的精煉部的傳送盤的頂剖視圖。
具體實(shí)施方式
為了促進(jìn)本發(fā)明一般原則的理解的目的,現(xiàn)在將對(duì)在附圖中示出和在下面描述的示范性實(shí)施例做出參考。然而應(yīng)該理解不打算由此限定本發(fā)明的范圍。本發(fā)明包括在示出裝置中的任何改變和進(jìn)一步的變型以及本發(fā)明一般原則的進(jìn)一步的應(yīng)用,這對(duì)于本發(fā)明所涉及領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是常規(guī)的。而且,選擇所述示范性實(shí)施例來描述以使得本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本發(fā)明。
除非另外限定,這里使用的所有技術(shù)和科學(xué)術(shù)語具有與本發(fā)明所屬領(lǐng)域技術(shù)人員普通理解的相同意思。這里本發(fā)明的描述中使用的術(shù)語僅是用于描述特定實(shí)施例,且不打算限制本發(fā)明。如在本發(fā)明的描述和所附權(quán)利要求中使用的單數(shù)形式“一”和“該”打算同樣包括復(fù)數(shù)形式,除非上下文有清楚的另外指示。
除非另有指示,說明書和權(quán)利要求書中使用的表示配料數(shù)量、諸如分子量的特征、反應(yīng)條件等等的所有數(shù)字,應(yīng)被理解為在一切情況下可以通過術(shù)語“約”變化。因此,除非另外指出,說明書和權(quán)利要求書中闡述的數(shù)字特征是可以根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例中試圖獲得的希望屬性改變的近似值。盡管闡述本發(fā)明寬范圍的數(shù)字范圍和參數(shù)是近似值,特定例子中闡述的數(shù)值被盡量精確地報(bào)告。然而,任何數(shù)值固有地包含由它們各自測(cè)量中發(fā)現(xiàn)的誤差必然導(dǎo)致的一定誤差。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于OCV智識(shí)資本有限責(zé)任公司,未經(jīng)OCV智識(shí)資本有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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