[發(fā)明專利]O/W型乳化化妝品

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080052296.1
• 申請日: 2010-11-25
• 公開（公告）號: CN102665656A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發(fā)明（設計）人: 福井崇;川田貴史
• 申請（專利權）人: 花王株式會社
• 主分類號: A61K8/29
• 分類號: A61K8/29;A61K8/06;A61K8/19;A61K8/25;A61K8/27;A61K8/31;A61K8/37;A61K8/42;A61K8/73;A61K8/81;A61K8/89;A61K8/894;A61K8/898
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

技術領域

本發(fā)明涉及O/W型乳化化妝品。

背景技術

以前，為了防御紫外線，使用能有效吸收紫外線的有機類紫外線吸收劑和能散射紫外線的紫外線防御粉體。作為紫外線防御粉體，經(jīng)常使用二氧化鈦或者氧化鋅，但是為了防御紫外線而必須在化妝品中大量配合。因此，有產(chǎn)生涂布于皮膚上變白的問題，以及產(chǎn)生粉體特有的干燥感，觸感變差的問題。

這樣為了抑制涂布于皮膚時的干燥感，例如探討了對顏料進行表面處理而抑制吸油量降低，使由皮膚上的皮脂的脫脂達到最小限，從而減少了皮膚的負擔，同時改善了化妝的持續(xù)性、耐水性、耐皮脂性、觸感、防止轉印效果、發(fā)色的化妝品（專利文獻1、專利文獻2、專利文獻3）。

然而，即使使用這樣表面處理過的顏料，也不能充分抑制干燥感，不能得到高的保濕性。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：特開2005-2076號公報

專利文獻2：特開2005-2077號公報

專利文獻3：特開2005-2078號公報

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供O/W型乳化化妝品，其中，含有以下的成分（A）、（B）、（C）、（D）、（E）以及（F）：

（A）用烷基烷氧基硅烷進行過表面處理的板狀粉體1~20重量%；

（B）在25°C下為固體的油0.1~10重量%；

（C）在25°C時粘度為500,000mPa·s以下的選自烴油、酯油以及醚油的油0.3~50重量%；

（D）HLB為8以下的非離子表面活性劑0.1~20重量%；

（E）分子內(nèi)具有碳原子數(shù)為8~30的烴基和陰離子性基團的水溶性高分子0.05~10重量%；

（F）水，

并且，成分（A）和（B）的重量比例為（B）/（A）=0.01~5。

發(fā)明的效果

本發(fā)明的O/W型乳化化妝品，可以得到均勻光滑且閉塞性高的皮膜，保濕性優(yōu)異、使用感也良好。進一步，紫外線防御效果高。

具體實施方式

本發(fā)明涉及沒有干燥感、保濕性優(yōu)異的化妝品。進一步，涉及紫外線防御效果高的化妝品。

本發(fā)明者們發(fā)現(xiàn)通過以特定的比例使用烷基烷氧基硅烷進行過表面處理的板狀粉體和在25°C下為固體的油，進而組合使用特定的液體油和乳化劑，可以得到能在皮膚表面形成閉塞性高的皮膜，保濕性優(yōu)異，使用感也良好，并且紫外線防御效果高的O/W型乳化化妝品。

本發(fā)明中使用的成分（A）是用烷基烷氧基硅烷進行過表面處理的板狀粉體，優(yōu)選平均粒徑為0.1~10μm、進一步優(yōu)選為0.2~1μm；并且板狀比（平均粒徑/厚度）為3以上、進一步優(yōu)選為5~45、特別優(yōu)選為10~45的薄片狀粉體。平均粒徑用板狀的平滑面的長徑和短徑的相加平均表示，由在透射電子顯微鏡照片中，對任意視野中任意20個粒子進行測定的結果算出。同樣的，平均粒子厚度由對透射電子顯微鏡照片的同一視野中的任意視野的任意20個粒子進行測定的結果算出。

在成分（A）中，作為處理過的板狀粉體，可以列舉例如板狀氧化鋅、板狀二氧化鈦、板狀氧化鈰、板狀硫酸鋇、滑石、云母、板狀高嶺土、絹云母、白云母、板狀合成云母、金云母、紅云母、黑云母、鋰云母、板狀無水硅酸、板狀羥基磷灰石、膨潤土、蒙脫土、鋰蒙脫石、板狀陶瓷粉末、板狀氧化鋁、板狀氮化硼、板狀聚甲基丙烯酸甲酯粉末、月桂酰賴氨酸、板狀氧化鐵、二氧化鈦包覆云母、二氧化鈦處理云母、氧氯化鉍、二氧化鈦包覆氧氯化鉍、二氧化鈦包覆滑石、魚鱗箔、二氧化鈦包覆著色云母、鋁等。其中，從紫外線防御效果的觀點出發(fā)，優(yōu)選氧化鋅、二氧化鈦、氧化鈰，其中，進一步優(yōu)選氧化鋅。更加優(yōu)選含有鐵元素作為微量元素的氧化鋅。

作為在處理這樣的板狀粉體中使用的烷基烷氧基硅烷，優(yōu)選具有碳原子數(shù)為6~20、進一步碳原子數(shù)為6~10、特別碳原子數(shù)為8的支鏈或者直鏈的烷基；以及碳原子數(shù)為1~2、更進一步碳原子數(shù)為2的烷氧基的烷基烷氧基硅烷，進一步優(yōu)選辛基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷。這樣的化合物可以更均勻地處理粉體。

用烷基烷氧基硅烷處理板狀粉體的方法沒有限制，例如可以通過使用濕式法、干式法、蒸鍍法（使用等離子體等在顏料上蒸鍍處理劑的方法）、氣相法（在空氣、氮氣等氣體中進行表面處理的方法）、機械化學法（使用球磨機、Angmill（Hosokawamicron公司制造）、混合儀（Hybridizer）（奈良機械制作所制造）等的機器進行機械化學的表面處理的方法）等進行。