[發明專利]陰圖制版平版印版前體

無效

• 申請號: 201080051366.1
• 申請日: 2010-11-04
• 公開（公告）號: CN102612435A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發明（設計）人: L·梅梅蒂爾;J·黃
• 申請（專利權）人: 伊斯曼柯達公司
• 主分類號: B41C1/10
• 分類號: B41C1/10
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張萍;李炳愛

發明領域

本發明涉及具有改進的保存期穩定性的陰圖制版型可成像元件，如平版印版前體。本發明還涉及提供成像且顯影(processed)的平版印版而在成像與顯影之間不存在烘烤(baking)步驟的方法。

發明背景

在制備包括平版印版前體在內的可成像材料時，常規使用對輻射敏感的組合物。此類組合物一般包含對輻射敏感的組分、引發劑體系和粘合劑(binder)，其中的每一種都已是研究焦點，以便在物理性質、成像性能和成像特性方面提供各種改進。

印版前體領域中的最近發展涉及可通過激光器或激光二極管成像的對輻射敏感的組合物(更尤其可在機(on-press)成像和/或顯影的對輻射敏感的組合物)的使用。激光曝光不需要常規的鹵化銀制版軟片作為中間信息載體(或者“掩模”)，因為可通過計算機直接控制激光器。市售圖文影排機中使用的高性能激光器或激光二極管一般發射波長為至少700nm的輻射，因此要求對輻射敏感的組合物在電磁波譜的近紅外區或紅外區具有敏感性。但是，將其它有用的對輻射敏感的組合物設計為采用紫外輻射或可見光輻射成像。

存在兩種使用對輻射敏感的組合物來制備印版的可能方式。對于陰圖制版型印版(negative-working?printing?plates)，使對輻射敏感的組合物中的曝光區域硬化，并在顯影期間洗去未曝光區域。對于陽圖制版型印版(positive-working?printing?plates)，將曝光區域溶解在顯影劑中，且未曝光區域變成為圖像。

在描述包含多元羧酸的陰圖制版型元件的許多公開出版物(如美國專利第6309792號(Hauck等))中，描述了可用來一經熱成像產生自由基的各種對輻射敏感的組合物和包含所述組合物的可成像元件。美國專利申請第2009/0111051號(Tao等)和WO?2004/041544(Munnelly等)描述了其它的對紅外敏感的陰圖制版型元件。

在許多情況下，此類陰圖制版型可成像元件需要有在可成像層上之上的起氧屏障作用的防護層(topcoat)，以提供所需的保存期和敏感性，但由于材料成本以及對額外的涂覆設備的需求原因，人們希望消除此額外層。防護層的存在通常在將成像層在合適的顯影劑中顯影之前需要額外的洗滌步驟，或者它將在自動顯影機的顯影周期(processing?cycle)內縮短顯影劑壽命。然而，消除防護層對印版前體的敏感性和保存期(隨時間的穩定性)產生不利影響。消除此氧屏障防護層而不損失任何敏感性和保存期穩定性是合意的。此外，其它可成像元件在成像與顯影(development(processing))之間需要烘烤步驟，以便提高圖像的耐磨性，但為用戶(消費者)消除此額外步驟，而不對成像速度(成像敏感性)造成任何損失同樣是合意的。

發明概述

本發明提供陰圖制版平版印版前體，其包含底材，且在底材上具有作為最外層的陰圖制版型可成像層(negative-working?imageable?layer)，所述可成像層包含：

a)聚合物粘合劑，

b)可自由基聚合的組分，

c)一經暴露于成像輻射提供自由基的引發劑組合物，以及

d)由以下結構(I)或結構(II)表示的氧清除劑和保存期穩定劑：

HOOC-Ar-N(R₁)(R₂)

(I)

HOOC-R₅-N(R₆)(R₇)

(II)

其中Ar為亞苯基或亞萘基，R₁和R₂獨立地為烷基、烯基、炔基、苯基、苯氧基、-R₅OH、-CH₂-C(＝O)-R₃或-CH₂-C(＝O)O-R₄基團，R₃為氫或烷基或苯基，R₄為烷基或苯基，R₅為亞烷基，R₆和R₇獨立地為氫或烷基、-R₅OH、-R₅C(＝O)-R₈或-R₅C(＝O)OR₉基團，R₈為氫或烷基，R₉為烷基，

條件是氧清除劑具有僅僅(no?more?than)一個羧基。