[發(fā)明專利]用于涂覆金屬帶材的裝置以及對(duì)此的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080050673.8 | 申請(qǐng)日: | 2010-11-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102597295A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C·卡里諾斯;J·庫(kù)爾曼;H·貝倫斯;P·方泰內(nèi) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | SMS西馬格股份公司 |
| 主分類號(hào): | C23C2/00 | 分類號(hào): | C23C2/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 肖日松;楊國(guó)治 |
| 地址: | 德國(guó)杜*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 金屬 裝置 以及 對(duì)此 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于利用涂覆材料涂覆金屬帶材的裝置,該裝置具有填充有液態(tài)(flüssig)涂覆材料的涂覆容器已涂覆的帶材垂直向上被引導(dǎo)穿過該涂覆容器或引導(dǎo)離開該涂覆容器,其中,在涂覆容器的上方布置有去除噴嘴(Abstreifdüse)以用于從帶材表面上去除(Abstreifen)仍然液態(tài)的涂覆材料,其中,在去除噴嘴的上方布置有電磁機(jī)構(gòu)以用于將帶材的位置穩(wěn)定在中間位置中,其中,該機(jī)構(gòu)包括至少兩個(gè)在金屬帶材的兩側(cè)布置在相同的高度上的磁鐵。此外,本發(fā)明涉及用于利用涂覆材料涂覆金屬帶材的方法。
背景技術(shù)
該類型的裝置以及相應(yīng)的方法為已知的。文件DE?10?2008?039?244?A1表述了用于熔體浸涂(Schmelztauchbeschichten)的裝置,在熔體浸涂中金屬帶材引導(dǎo)通過涂覆池(Beschichtungsbad)并且垂直向上被引導(dǎo)離開該涂覆池。在涂覆容器的上方布置去除噴嘴,利用該去除噴嘴將多余的涂覆材料從帶材表面上吹除。在去除噴嘴的上方以預(yù)定的距離布置帶材穩(wěn)定件,利用該帶材穩(wěn)定件應(yīng)將帶材在設(shè)備的中間平面中保持在中間。
類似的解決方案從文件WO?02/14574?A1中已知。文件WO?01/11101?A1、文件EP?0?659?897?B1、文件EP?0?854?940?B1以及文件JP?1100?6046也顯示了對(duì)于熔體浸涂方法的細(xì)節(jié)。
在熔體浸涂設(shè)備中,尤其在熱浸鍍鋅設(shè)備(Feuerverzinkungsanlage)中,對(duì)帶材位置和帶材行進(jìn)提出不同的要求。特別在去除噴嘴的區(qū)域中,應(yīng)利用以不接觸方式起作用的系統(tǒng)(其為所謂的電磁帶材穩(wěn)定系統(tǒng))而降低帶材振動(dòng)并且影響帶材形狀。
在帶有位于去除噴嘴下游的感應(yīng)式加熱系統(tǒng)(鍍鋅層退火處理裝置(Galvannealer))的設(shè)備中,附加地在去除噴嘴的上方在加熱機(jī)構(gòu)前安裝引導(dǎo)輪,該引導(dǎo)輪應(yīng)確保在加熱線圈之間平靜的帶材行進(jìn)并且應(yīng)防止通過帶材與其的接觸而引起的不僅在設(shè)備處而且在帶材上的缺陷。
同樣,在帶有和不帶有下游連接的加熱感應(yīng)器的設(shè)備中,穩(wěn)定的在中間的帶材行進(jìn)對(duì)于接著去除噴嘴的帶材冷卻機(jī)構(gòu)來(lái)說具有重要的意義,以為了實(shí)現(xiàn)均勻的冷卻效果。在此還避免設(shè)備和帶材表面的損傷。
已知不同的系統(tǒng),其以無(wú)接觸的、也就是說電磁的方式施加附加力到鋼帶上,以為了降低以振動(dòng)形式的帶材運(yùn)動(dòng)。此外,利用該系統(tǒng)可橫向于輸送方向影響帶材形狀。
在帶材穩(wěn)定系統(tǒng)中借助于行程傳感器(Wegsensor)測(cè)量垂直于(normal?zu)帶材表面的帶材位置并且以封閉的調(diào)節(jié)回路調(diào)節(jié)該帶材位置。在此,還可在下游連接的機(jī)構(gòu)的內(nèi)部使用其它的測(cè)量機(jī)構(gòu)作為用于帶材位置調(diào)節(jié)的附加信號(hào)。
已證明不利的是:帶材穩(wěn)定件的位置以受結(jié)構(gòu)類型限制的方式而限定并且在已知的解決方案中通常關(guān)注于在空間上位于去除噴嘴附近。因此,取決于設(shè)計(jì)方案,獲得帶材穩(wěn)定件磁鐵與去除噴嘴的噴嘴唇(Düsenlippe)(來(lái)自噴嘴的空氣出口)的距離。
由此,相對(duì)于下游連接的機(jī)構(gòu)、例如相對(duì)于加熱感應(yīng)器或者對(duì)于下游連接的帶材冷卻件的距離相當(dāng)大。由此沒有獲得或僅獲得帶材穩(wěn)定件磁鐵對(duì)該處的帶材運(yùn)動(dòng)的最小的作用,并且因此在與去除噴嘴有間隔的區(qū)域中沒有獲得帶材穩(wěn)定件的影響可能性。
當(dāng)帶材穩(wěn)定件磁鐵然而直接安裝在加熱感應(yīng)器或帶材冷卻件前時(shí),則在去除噴嘴的區(qū)域中相應(yīng)地獲得對(duì)帶材定中心(Bandzentrierung)的明顯變小的作用。
因此在已知的設(shè)備中,總是僅獲得所選擇的位置,該位置通常與在去除噴嘴的區(qū)域中的作用相協(xié)調(diào),也就是說帶材穩(wěn)定件磁鐵通常布置在去除噴嘴的區(qū)域中。
由此,然而沒有或僅以受限制的方式滿足了現(xiàn)代帶材鍍鋅設(shè)備(Bandverzinkungsanlage)的要求。
發(fā)明內(nèi)容
基于該缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于,改進(jìn)用于利用涂覆材料涂覆金屬帶材的裝置以及相應(yīng)的方法,使得可以改善且更簡(jiǎn)單的方式對(duì)帶材引導(dǎo)的不同的要求做出反應(yīng)。相應(yīng)地可提高熔體浸涂、尤其熱浸鍍鋅的品質(zhì)。
該目的通過本發(fā)明的解決方案在裝置技術(shù)方面的特征為用于調(diào)整磁鐵與去除噴嘴的垂直距離的器件。
用于調(diào)整垂直距離的器件可包括至少一個(gè)提升元件,該提升元件直接或間接與去除噴嘴相連接。去除噴嘴可在此具有框架結(jié)構(gòu)或與框架結(jié)構(gòu)相連接,在該框架結(jié)構(gòu)上布置該至少一個(gè)提升元件。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝;其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去;覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
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