[發明專利]具有預成型的球面形匹配層的彎曲超聲HIFU換能器有效
| 申請號: | 201080050669.1 | 申請日: | 2010-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN102596432A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發明(設計)人: | D·克拉克;B·C·謝勒;R·曼寧;H·王 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | B06B1/06 | 分類號: | B06B1/06;G10K11/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪貴 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 成型 球面 匹配 彎曲 超聲 hifu 換能器 | ||
1.一種彎曲的高強度聚焦超聲(HIFU)換能器,包括:
彎曲壓電陣列,所述彎曲壓電陣列具有相反的凸形和凹形表面以及多個聲發送區域,所述凹形表面是發送表面;
多個電極,所述電極位于彎曲壓電陣列的表面上,用于向聲發送區域施加電發送信號;以及
整體式的連續形成的彎曲匹配層,所述彎曲匹配層被預成型為彎曲換能器陣列的期望曲率,且接合到彎曲壓電陣列的發送表面,并為彎曲壓電陣列的發送表面提供聲匹配和電隔離。
2.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,匹配層還包括通過鑄造或模制成型形成的球面形彎曲層。
3.如權利要求2所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,球面形彎曲層被模制而形成凸球面形表面,所述凸球面形表面匹配彎曲壓電陣列的凹形表面的曲率。
4.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,球面形彎曲層使用凹形模制夾具被鑄造或模制成型。
5.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,匹配層還包括通過機加工實心匹配層材料形成的球面形彎曲層。
6.如權利要求4所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,實心匹配層材料被機加工而形成凸球面形表面,所述凸球面形表面匹配彎曲壓電陣列的凹形表面的曲率。
7.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,彎曲匹配層還包括填有顆粒的環氧樹脂,所述顆粒使得所述匹配層具有期望的聲學性能。
8.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,彎曲匹配層還包括填有顆粒的熱塑性樹脂,所述顆粒使得所述匹配層具有期望的聲學性能。
9.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,彎曲匹配層還包括平坦的匹配層材料片,所述平坦的匹配層材料片被加熱且被形成為期望的曲率。
10.如權利要求9所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,所述匹配層材料片被加熱且被形成為具有凸球面形表面,所述凸球面形表面匹配彎曲壓電陣列的凹形表面的曲率。
11.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,彎曲壓電陣列還包括多個壓電瓦片,所述多個壓電瓦片當組裝在一起時形成具有期望曲率的壓電陣列;以及
其中,預成型匹配層還包括固定裝置,壓電瓦片一起組裝和接合在所述固定裝置上。
12.如權利要求11所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,每個壓電瓦片還具有局部球面形凹形表面,
其中,局部球面形凹形表面適配預成型的匹配層的凸形表面。
13.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,匹配層還在彎曲壓電陣列與換能器面前的環境之間包括連續的、不可透過濕氣的隔離件。
14.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,匹配層還在彎曲壓電陣列與換能器面前的環境之間包括連續的電隔離的隔離件。
15.如權利要求1所述的彎曲HIFU換能器,其特征在于,匹配層的接合到彎曲壓電陣列的表面包括凸形表面,
其中,匹配層的凸形表面由被用金屬處理的電極覆蓋。
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