[發明專利]波紋狀填裝結構柵構和由若干填裝結構柵構裝配的結構化填裝結構

有效

• 申請號: 201080049892.4
• 申請日: 2010-11-03
• 公開（公告）號: CN102665892A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發明（設計）人: 阿曼·沃爾夫;馬科斯·萊納;維爾納·蓋佩爾
• 申請（專利權）人: RVT處理設備股份有限公司
• 主分類號: B01J19/32
• 分類號: B01J19/32
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 李世喆

1.一種用于氣液接觸設備的波紋狀填裝結構柵構（1），其具有連續設置的波谷（6）和波峰（5），用于由若干填裝結構柵構（1）裝配而成的結構化填裝結構，其中在所述填裝結構柵構（1）的所述波谷（6）區域中，設置有延伸到所述波谷（6）中的元件（10，11，12，14），其特征在于，

所述波峰（5）和所述波谷（6）由波狀帶（2）形成，其中所述波狀帶（2）彼此隔開一段距離設置，并被連接到具有橫向于所述帶（2）延伸的交叉撐（3）的開放結構。

2.根據權利要求1所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，所述波狀帶（2）平行于彼此延伸，橫向于所述帶（2）延伸的所述交叉撐（3）也平行于彼此延伸。

3.根據權利要求1或2所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，延伸到所述波谷（6）中的所述元件（10，11，12，14）被設置在所述填裝結構柵構（1）的位于所述波狀帶（2）之間的區域中。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，延伸到所述波谷（6）中的所述元件被部分地形成為弓形部（10），所述弓形部（10）與所述波峰（5）相反地向外延伸。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，延伸到所述波谷（6）中的所述元件被部分地體現為腹板（14），所述腹板（14）延伸至所述填裝結構柵構（1）的前側（7）或延伸至所述填裝結構柵構（1）的后側（8）。

6.根據權利要求4和5所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，突出到相同波谷（6）中的所述弓形部（10）和腹板（14）被交替地設置在位于所述波狀帶（2）之間的區域中。

7.根據權利要求2至6中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，所述交叉撐（3；3.1；3.2；3.3）連接于在所述波峰（5）、所述波谷（6）和位于所述波峰（5）與所述波谷（6）之間的反轉點（9）處平行延伸的所述波狀帶（2）。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，所述交叉撐（3）朝向所述填裝結構柵構（1）的所述前側（7）和/或朝向所述填裝結構柵構（1）的所述后側（8）伸長。

9.根據權利要求7或8所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，位于所述波狀帶（2）的所述反轉點（9）中的所述交叉撐（3.1）延伸到所述填裝結構柵構的所述前側（7）并延伸至所述填裝結構柵構的所述后側（8）。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，設置在所述波峰（5）處或設置在所述波谷（6）處的所述交叉撐（3.2；3.3）僅延伸至所述填裝結構柵構（1）的所述后側（8）或僅延伸至所述填裝結構柵構（1）的所述前側（7）。

11.根據權利要求7至10中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，設置在所述波狀帶（2）的所述反轉點（9）處的相同波谷（6）中的所述交叉撐（3.1）包括向外斜向突出到所述波谷中的臂（11），所述臂（11）接合于相應波谷中的相反的所述交叉撐（3.1）的所述臂（11）并形成所述弓形部（10）。

12.根據權利要求11所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，分別位于所述波谷（6）中或位于所述波峰（5）處的所述交叉撐（3.3；3.2）包括支撐部（12），該支撐部（12）在所述波谷（6）中突出至所述填裝結構柵構（1）的所述前側（7）或突出至所述填裝結構柵構（1）的所述后側（8）并與所述弓形部（10）連接。

13.根據權利要求1至12中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，所述波狀帶（2）關于位于所述填裝結構柵構（1）的平面中并垂直于所述填裝結構柵構（1）的縱向延伸方向（L）延伸的直線包括大約30°至60°的角度，所述交叉撐（3）關于位于所述填裝結構柵構（1）的所述平面中并垂直于所述填裝結構柵構（1）的所述縱向延伸方向（L）延伸的該直線包括大約30°至60°的角度。

14.根據權利要求1至13中任一項所述的填裝結構柵構（1），其特征在于，所述填裝結構柵構（1）由塑料制成。

15.一種用于氣液接觸設備的結構化填裝結構，具有多個相鄰的根據前述權利要求中任一項所述的填裝結構柵構（1），其中相鄰的填裝結構柵構（1）均相對于彼此旋轉而設置。