[發(fā)明專利]具有低反射和高接觸角的基板及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080049593.0 | 申請日： | 2010-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN102597815A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 金臺洙;金在鎮(zhèn);辛富建;洪瑛晙;崔賢 | 申請（專利權(quán)）人： | LG化學(xué)株式會社 |
| 主分類號： | G02B1/10 | 分類號： | G02B1/10;H01L21/027;B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327 | 代理人： | 黃麗娟;陳英俊 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 反射 接觸角 及其 制備 方法 | ||
1.一種基板，包括：
1)基底，在該基底的至少一面上具有圖案，其中，根據(jù)該圖案的形狀，該圖案的下部區(qū)域的折射率和該圖案的上部區(qū)域的折射率彼此不同；和
2)斥水涂層，該斥水涂層設(shè)置在所述基底的至少一個具有圖案的面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，在所述基底的具有圖案的表面上折射率逐漸變化。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，從所述基底圖案的所述下部區(qū)域朝著所述上部區(qū)域折射率變小。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述基底上的圖案具有這樣的形狀，在該形狀中，在所述圖案的至少一個垂直截面中，所述圖案的上部區(qū)域的寬度比所述圖案的下部區(qū)域的寬度小。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述基底上的圖案的水平截面朝著該圖案的上部區(qū)域的方向變小。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述基底上的圖案具有至少一個這樣的圖案垂直截面，該圖案垂直截面具有一維或二維三角形、正弦波或梯形的形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述基底上的圖案具有50～300nm的線寬和100nm或大于100nm的厚度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述基底上的圖案通過干涉光刻法直接形成，或者通過復(fù)制由干涉光刻法形成的圖案而形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述基底包括石英玻璃、派熱克斯玻璃、鈉鈣玻璃、藍(lán)玻璃、三乙酸纖維素膜、基于降冰片烯的環(huán)烯烴聚合物膜、聚酯膜、聚甲基丙烯酸酯膜、聚碳酸酯膜或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述斥水劑涂層由選自基于氟的斥水劑和基于硅烷的斥水劑中的一種或多種斥水劑形成。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板，其中，所述基板的透光率小于2％且接觸角為120°或大于120°。
12.一種基板，包括：
基底，該基底的至少一面上具有圖案；和斥水涂層，該斥水涂層設(shè)置在所述基底的至少一面上，
其中，所述基板的透光率小于2％且接觸角為120°或大于120°。
13.根據(jù)權(quán)利要求1～12中任一權(quán)利要求所述的基板的制備方法，其包括：
a)在基底的至少一面上形成圖案，該圖案所具有的形狀使得該圖案的下部區(qū)域的折射率和該圖案的上部區(qū)域的折射率彼此不同；和
b)在所述基底的至少一個具有圖案的面上形成斥水涂層。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板的制備方法，其中，所述步驟a)通過干涉光刻法進(jìn)行。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板的制備方法，其中，在所述干涉光刻法中使用200～400nm范圍內(nèi)的波長。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板的制備方法，其中，所述步驟a)包括：a1)清潔基底；a2)在所述基底上依次涂布并干燥防反射涂料組合物和光敏樹脂組合物；a3)使用干涉光刻法對待形成圖案的所述已形成的防反射層和光敏層進(jìn)行選擇性曝光和顯影；a4)使用所述形成圖案的防反射層和光敏層作為掩膜對所述基底進(jìn)行蝕刻；和a5)在所述蝕刻之后，從所述基底中去除所述形成圖案的防反射層和光敏層。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板的制備方法，其中，步驟a)通過如下步驟來進(jìn)行：使用干涉光刻法制備具有圖案的母版，或者在具有利用干涉光刻法制備的圖案的基底上沉積和電鍍金屬薄膜來制備由金屬材料制成的母版；然后將所述母版的圖案轉(zhuǎn)移到所述基底上。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板的制備方法，其中，步驟b)包括涂布斥水涂料組合物并干燥該斥水涂料組合物。
19.一種光學(xué)產(chǎn)品，包括權(quán)利要求1～12中任一權(quán)利要求所述的基板。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的光學(xué)產(chǎn)品，其中，所述光學(xué)產(chǎn)品包括防反射膜、用于LCD的偏光器補(bǔ)償膜或用于觸屏的防污染膜。
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