[發明專利]液體樣品中的分析物的檢測方法有效
| 申請號: | 201080048944.6 | 申請日: | 2010-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN102713578A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | A·伊麥蒂;P·H·J·耐德考恩;A·杜迪亞;J·S·坎格;V·薩布萊曼尼亞姆 | 申請(專利權)人: | 奧斯坦德姆控股有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/77 | 分類號: | G01N21/77;G01N21/45 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 劉佳 |
| 地址: | 荷蘭恩*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液體 樣品 中的 分析 檢測 方法 | ||
1.一種檢測液體樣品中的分析物的方法,包括:
a)提供測量區和參比區,測量區含有用于結合所述分析物的受體;
b)提供至少一束光以橫穿所述測量區和參比區;
c)至少向測量區提供液體樣品;
d)利用檢測器檢測由所述至少一束光橫穿測量區和參比區之后所提供的光學圖案;和
e)從測得的光學圖案中推導液體樣品中存在所述分析物;
其中,在c)之前,沿著測量區和參比區提供封閉液。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,向測量區和參比區提供液體樣品。
3.如權利要求1或2所述的方法,其特征在于,該方法包括:
在c)之前,利用檢測器檢測由所述至少一束光橫穿測量區和參比區之后所提供的參比光學圖案;
其中,在向至少測量區提供液體樣品期間或之后執行d)至少一次,
并且其中,e)包括:比較所述參比光學圖案的特征與d)中所測得的光學圖案的特征并且從中推斷存在所述分析物。
4.如權利要求3所述的方法,其特征在于,所述光學圖案和參比光學圖案的特征包括光學圖案的空間頻譜中的頻率分量的相位、來自所述至少一束光橫穿測量區和橫穿參比區之間的干涉的頻率分量。
5.如前述權利要求中的任何一項所述的方法,其特征在于,提供第二參比區,其中
d)還包括檢測參比區與第二參比區之間的差異,和
e)還包括估計d)中所測得的參比區與第二參比區之間的差異的干擾并且利用所估計的干擾來糾正關于分析物的存在的信息。
6.如權利要求5所述的方法,其中c)還包括至少沿著第二參比區提供參比液。
7.如權利要求5或6所述的方法,其特征在于,其中所述干擾包括測量區與參比區之間的漂移;其中,
在c)之前,檢測測量區與參比區之間的第一漂移,并且檢測參比區與第二參比區之間的第二漂移,其中,確定第一漂移與第二漂移之間的漂移關系,和
從所確定的漂移關系和在d)中所測得的參比區與第二參比區之間的差異,來估計測量區與參比區之間的漂移。
8.如權利要求5-7中的任何一項所述的方法,其特征在于,提供第三參比區,其中,
d)還包括檢測第二參比區與第三參比區之間的差異;
e)還包括從在d)中測得的第二參比區與第三參比區之間的差異來估計其他干擾并且利用所估計的干擾來糾正參比區與第二參比區之間的差異。
9.如權利要求8所述的方法,其特征在于,所述其他干擾包括非特異性結合的影響。
10.如權利要求8或9所述的方法,其特征在于,提供第四參比區,其中,
d)還包括檢測第三參比區與第四參比區之間的差異,和
e)還包括從在d)中測得的第三參比區與第四參比區之間的差異來估計另外的干擾并且利用所估計的干擾來糾正參比區與第二參比區之間以及第二參比區與第三參比區之間的差異。
11.如權利要求10所述的方法,其特征在于,所述另外的干擾包括樣品液與封閉液和/或參比液之間的綜合影響。
12.如前述權利要求中的任何一項所述的方法,其特征在于,e)包括確定測量曲線的初始斜率并且從所確定的初始斜率推導所述分析物的存在。
13.如權利要求12所述的方法,其特征在于,將測量曲線的初始斜率與預先確定的校正數據作比較,該預先確定的校正數據將該初始斜率與不同的分析物濃度關聯起來。
14.如前述權利要求中的任何一項所述的方法,其特征在于,還包括以下步驟:采用去除方法從受體層去除所述分析物的至少一部分,光學圖案是在去除之前和之后被檢測的。
15.如權利要求14所述的方法,其特征在于,將參比液加入參比區,并且沿著該參比區執行去除處理。
16.如權利要求15所述的方法,其特征在于,還將參比液加入第二參比區,沿著第二參比區進一步執行去除處理,和其中,
e)包括從在參比區與第二參比區之間所測得的漂移推導測量區與參比區之間的漂移并且利用推導出的測量區與參比區之間的漂移來糾正關于分析物的存在的信息。
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