[發(fā)明專利]帶電粒子多子射束光刻系統(tǒng)、調(diào)節(jié)裝置及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080048345.4
• 申請(qǐng)日: 2010-10-26
• 公開（公告）號(hào): CN102668015A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M.J-J.威蘭;F.M.波斯特馬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 邁普爾平版印刷IP有限公司
• 主分類號(hào): H01J37/317
• 分類號(hào): H01J37/317;H01J37/04
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 沙捷

1.一種用于帶電粒子多子射束光刻系統(tǒng)中的調(diào)節(jié)裝置，所述裝置包括包含互連結(jié)構(gòu)的本體，該互連結(jié)構(gòu)設(shè)置有多個(gè)調(diào)節(jié)器及在所述互連結(jié)構(gòu)內(nèi)的不同層次處的互連，所述互連用于實(shí)現(xiàn)所述調(diào)節(jié)器與一個(gè)或多個(gè)圖案數(shù)據(jù)接收組件的連接；

其中一個(gè)調(diào)節(jié)器包括第一電極、第二電極，及延伸通過(guò)所述本體的孔，所述電極位于所述孔的相對(duì)側(cè)上以用于橫越所述孔產(chǎn)生電場(chǎng)；且

其中所述第一電極和所述第二電極中的至少一個(gè)包括形成于所述互連結(jié)構(gòu)的第一層次處的第一導(dǎo)電組件，和形成于所述互連結(jié)構(gòu)的第二層次處的第二導(dǎo)電組件，所述第一導(dǎo)電組件與所述第二導(dǎo)電組件彼此電連接。

2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述第一導(dǎo)電組件與所述第二導(dǎo)電組件通過(guò)至少一個(gè)連通部而彼此連接，所述至少一個(gè)連通部曝露至所述孔，以形成所述電極的部分。

3.如權(quán)利要求1或2所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述多個(gè)調(diào)節(jié)器中的第一調(diào)節(jié)器被配置成經(jīng)由所述互連結(jié)構(gòu)的在所述第一層次處的所述第一導(dǎo)電組件而連接至圖案數(shù)據(jù)接收組件，且所述多個(gè)調(diào)節(jié)器中的第二調(diào)節(jié)器被配置成經(jīng)由所述互連結(jié)構(gòu)的所述第二層次處的所述第二導(dǎo)電組件而連接至所述圖案數(shù)據(jù)接收組件。

4.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述多個(gè)調(diào)節(jié)器的所述互連以可尋址陣列進(jìn)行配置，該可尋址陣列設(shè)置有至少一字符線及至少一位線。

5.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述互連結(jié)構(gòu)通過(guò)基板支撐。

6.如權(quán)利要求5所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述基板為其中限定有多個(gè)半導(dǎo)體電路組件的半導(dǎo)體基板。

7.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述互連結(jié)構(gòu)的頂層為導(dǎo)電層。

8.如權(quán)利要求7所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述頂層被配置成處于接地電位，其中所述第一電極被配置成用于與所述圖案數(shù)據(jù)接收組件連接，且其中所述第二電極連接至所述頂層。

9.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述互連結(jié)構(gòu)為CMOS結(jié)構(gòu)。

10.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述數(shù)據(jù)接收組件為所述調(diào)節(jié)裝置的部分，且所述數(shù)據(jù)接收組件為用于將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成對(duì)應(yīng)電信號(hào)的感光組件。

11.如權(quán)利要求10所述的調(diào)節(jié)裝置，其中所述感光組件為提供于所述互連結(jié)構(gòu)頂部的Ge二極管。

12.一種用于使用多個(gè)子射束將圖案轉(zhuǎn)印至目標(biāo)的表面上的帶電粒子多子射束光刻系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：

射束產(chǎn)生器，其用于產(chǎn)生多個(gè)子射束；

如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的調(diào)節(jié)裝置，其用于根據(jù)圖案數(shù)據(jù)來(lái)偏轉(zhuǎn)所述多個(gè)子射束；

子射束擋止器陣列，其用于選擇性阻擋所述已偏轉(zhuǎn)的子射束，以便形成圖案化子射束；和

投影系統(tǒng)，其用于將所述經(jīng)圖案化射束投影至所述目標(biāo)表面上。

13.如權(quán)利要求12所述的光刻系統(tǒng)，其中子射束組被配置成通過(guò)所述子射束擋止器陣列中的單個(gè)孔，且所述調(diào)節(jié)裝置中的對(duì)應(yīng)偏轉(zhuǎn)器被配置成使所述子射束朝向阻擋位置偏轉(zhuǎn)至所述子射束陣列上，使得所述阻擋位置基本上均質(zhì)地圍繞所述單個(gè)孔散布。

14.一種制造調(diào)節(jié)裝置的方法，包括：

提供包括互連結(jié)構(gòu)的本體，該互連結(jié)構(gòu)設(shè)置有多個(gè)調(diào)節(jié)器及在所述互連結(jié)構(gòu)內(nèi)的不同層次處的互連，所述互連是用于實(shí)現(xiàn)所述調(diào)節(jié)器與一個(gè)或多個(gè)圖案數(shù)據(jù)接收組件的連接，其中所述調(diào)節(jié)器包括第一電極和第二電極，且其中所述第一電極和所述第二電極中的至少一個(gè)包括形成于所述互連結(jié)構(gòu)的第一層次處的第一導(dǎo)電組件以及形成于所述互連結(jié)構(gòu)的第二層次處的第二導(dǎo)電組件，所述第一導(dǎo)電組件與所述第二導(dǎo)電組件彼此電連接；和

形成延伸通過(guò)所述本體的孔，使得所述多個(gè)調(diào)節(jié)器中的一個(gè)調(diào)節(jié)器的所述第一電極和所述第二電極位于所述孔的相對(duì)側(cè)上以用于橫越所述孔產(chǎn)生電場(chǎng)。