[發明專利]金屬絡合物、高分子化合物及使用其的元件有效
| 申請號: | 201080046618.1 | 申請日: | 2010-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN102596978A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發明(設計)人: | 岡村玲;淺田浩平 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | C07F15/00 | 分類號: | C07F15/00;C07D217/02;C07D401/04;C08G61/00;C08L65/00;C09K11/06;H01L51/50 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬 絡合物 高分子化合物 使用 元件 | ||
1.一種下式(1)所示的金屬絡合物:
式中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R8、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及R20各自獨立地表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、烷基硫基、芳基、芳氧基、芳基硫基、芳基烷基、芳基烷氧基、芳基烷基硫基、酰基、酰氧基、酰胺基、酰亞胺基、亞胺殘基、取代氨基、取代甲硅烷基、取代甲硅烷氧基、取代甲硅烷硫基、取代甲硅烷氨基、1價雜環基、雜芳氧基、雜芳基硫基、芳基烯基、芳基炔基、取代羧基或氰基,這些基團可具有取代基;
Z1、Z2、Z3、Z4及Z5各自獨立地表示-C(R*)=或氮原子,R*表示氫原子或取代基;
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R8、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、Z1、Z2、Z3、Z4及Z5分別存在多個時,可相同也可不同,Z1、Z2、Z3、Z4及Z5的至少2個為氮原子;
m為1或2。
2.根據權利要求1所述的金屬絡合物,其用下式(1c)表示:
式中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R8、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、Z1、Z2、Z3、Z4及Z5具有與上述相同的含義。
3.根據權利要求2所述的金屬絡合物,其用下式(1a)或下式(1b)表示:
式中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R8、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及R20具有與上述相同的含義;
R’表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、烷基硫基、芳基、芳氧基、芳基硫基、芳基烷基、芳基烷氧基、芳基烷基硫基、酰基、酰氧基、酰胺基、酰亞胺基、亞胺殘基、取代氨基、取代甲硅烷基、取代甲硅烷氧基、取代甲硅烷硫基、取代甲硅烷氨基、1價雜環基、雜芳氧基、雜芳基硫基、芳基烯基、芳基炔基、取代羧基或氰基,這些基團可具有取代基,多個存在的R’可相同也可不同。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于住友化學株式會社,未經住友化學株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080046618.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種隔離開關操動機構
- 下一篇:一種準確模擬電力電容器真空處理過程溫度的裝置





