[發明專利]氟化亞乙烯基陽離子表面活性劑

無效

• 申請號: 201080046210.4
• 申請日: 2010-10-07
• 公開（公告）號: CN102574795A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 彭晟;A·M·雅克;C·L·凱斯珀
• 申請（專利權）人: 納幕爾杜邦公司
• 主分類號: C07D213/20
• 分類號: C07D213/20
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄒雪梅;李炳愛

1.式(I)的化合物

其中，

Rf為F(CF₂)₆(CH₂CF₂)_m(CH₂CH₂)_n-，

m和n各自獨立地為1至3的整數，并且

R為H、C₁-C₅直鏈或支鏈的烷基、或C₁-C₅直鏈或支鏈的烷氧基。

2.權利要求1的化合物，所述化合物在按重量計0.1％濃度的水溶液中具有約25mN/m或更低的表面張力。

3.權利要求1的化合物，還包含液體，所述液體選自水、鹽水溶液、KCl溶液、HCl溶液、烴、鹵化碳、鉆井液、井液、用于地下地層的液體處理流和用于地下地層的氣體處理流。

4.權利要求3的化合物，所述化合物以按重量計0.001％至50％的濃度范圍存在于所述液體中。

5.權利要求1的化合物，所述化合物為泡沫的形式。

6.改變含水介質或溶劑介質表面效果的方法，所述方法包括使所述介質與如權利要求1中所述的式(I)的化合物接觸。

7.權利要求6的方法，其中所述介質選自水、鹽水溶液、KCl溶液、HCl溶液、鉆井液、井液、增產流體、用于地下地層和井孔區域的液體處理流或氣體處理流、烴、鹵化碳、涂料組合物、膠乳、聚合物、地板涂飾劑、地板拋光劑、滅火劑、油墨、乳化劑、發泡劑、剝離劑、拒斥劑、流動改性劑、薄膜蒸發抑制劑、潤濕劑、滲透劑、清潔劑、研磨劑、電鍍劑、腐蝕抑制劑、蝕刻劑溶液、焊接劑、分散助劑、微生物劑、制漿助劑、漂洗助劑、拋光劑、個人護理組合物、干燥劑、抗靜電劑和粘合劑。

8.權利要求6的方法，其中所述表面效果選自降低所述表面張力、潤濕性、滲透性、鋪展性、找平性、流動性、乳化性、分散性、拒斥性、剝離性、潤滑性、蝕刻性、粘結性和穩定性。

9.權利要求6的方法，其中將式(I)的化合物加入到將與含烴的地下地層接觸的介質中，并且其中所述介質選自水、鹽水溶液、KCl溶液、HCl溶液、烴、鹵化碳、鉆井液、井液、增產流體、以及用于地下地層和井孔區域的液體處理流或氣體處理流。

10.權利要求9的方法，其中所述式(I)的化合物以按重量計約0.001％至約50％的濃度存在于所述介質中。