[發(fā)明專利]用于渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的燃燒室的多點(diǎn)噴射器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080046195.3
• 申請(qǐng)日: 2010-10-12
• 公開（公告）號(hào): CN102575844A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 迪迪爾·希波呂特·埃爾南德斯;托馬斯·奧利維耶·瑪麗·諾維爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 斯奈克瑪
• 主分類號(hào): F23D11/36
• 分類號(hào): F23D11/36;F23R3/28;F23R3/34
• 代理公司: 中國(guó)商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 11234
• 代理人: 宋義興;曾海艷

1.一種用于渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的環(huán)形燃燒室的燃料噴射器裝置，所述裝置包括連續(xù)不斷地向通向第一文氏管(12)的噴射器(16)供給燃料的引燃線路，以及間歇地向形成在第二文氏管(14)的上游環(huán)形室(70)前表面(68)上的噴射孔(80)供給燃料的多點(diǎn)線路，所述第二文氏管(14)與所述第一文氏管(12)同軸，環(huán)形圈(76)安裝于所述環(huán)形室(70)內(nèi)部，用以限定用以向所述噴射孔(80)供給燃料的燃料供給回路，以及通過(guò)使供給所述引燃線路噴射器的燃料流過(guò)的方式工作的冷卻回路，所述噴射器裝置特征在于，所述冷卻回路在所述環(huán)形室(70)的緊鄰所述噴射孔(80)的前表面(68)上延伸。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述冷卻回路包括形成于所述環(huán)形圈(76)的下游表面上的凹槽(72)，所述下游表面抵壓于所述環(huán)形室(70)的所述前表面(68)上。

3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述冷卻回路還包括形成于所述環(huán)形圈(76)和所述環(huán)形室(70)的內(nèi)側(cè)圓柱形壁(88，90)之間的環(huán)形通道。

4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于，所述冷卻回路還包括形成于所述環(huán)形圈(76)的外側(cè)圓柱形壁(100)和所述環(huán)形室(70)的外側(cè)圓柱形壁(102)之間的環(huán)形通道。

5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，形成于所述環(huán)形圈(76)的外側(cè)圓柱形壁(100)和所述環(huán)形室(70)的外側(cè)圓柱形壁(102)之間的環(huán)形通道被設(shè)計(jì)為與所述引燃線路隔離并且在運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中充滿空氣或已焦化的燃料。

6.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于，用于冷卻所述室(70)的所述前表面(68)的冷卻回路呈波浪形，并且在所述噴射孔(80)的內(nèi)側(cè)和外側(cè)之間徑向交替地延伸。

7.如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于，用于冷卻所述室(70)的所述前表面(68)的冷卻回路包括兩個(gè)對(duì)稱的半圓形的分支，每一個(gè)所述分支在燃料進(jìn)口裝置與燃料出口裝置之間延伸。

8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述燃料出口裝置與所述引燃線路的所述噴射器(16)相連接。

9.如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于，所述環(huán)形圈(76)的下游壁(74)包含有通向所述環(huán)形室(70)的所述前表面(68)的所述噴射孔(80)的燃料穿過(guò)孔(78)。

10.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述環(huán)形圈(76)的下游壁(74)上的所述孔(78)的直徑小于所述環(huán)形室(70)的所述前表面(68)上的噴射孔(80)的直徑。

11.一種用于渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的環(huán)形燃燒室，其特征在于，所述環(huán)形燃燒室包括至少一個(gè)如前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的燃料噴射器裝置(67)。

12.一種用于渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)，其特征在于，所述發(fā)動(dòng)機(jī)包括至少一個(gè)如權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的燃料噴射器裝置(67)。