[發明專利]用于在水下地基構造中安裝基座元件的系統和方法

有效

• 申請號: 201080045890.8
• 申請日: 2010-10-13
• 公開（公告）號: CN102667001A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發明（設計）人: W·簡艾伯特
• 申請（專利權）人: IHC荷蘭IE有限公司
• 主分類號: E02D5/28
• 分類號: E02D5/28;E02D7/10;E02D7/14;E02D7/28;E02D13/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 王會卿

1.一種用于在水下地基構造(3)中安裝具有敞開端部的管狀基座元件特別是(單)樁(2)的系統(1)，所述系統包括液壓打樁機(4)和砧(5)，其特征在于用于從砧(5)向基座元件(2)的趾部(8)傳遞能量的適配器(7)，所述適配器(7)安裝在管狀基座元件(2)內部。

2.根據權利要求1所述的系統(1)，其中所述適配器(7)包括管狀下段(7A)，所述管狀下段在至少其底部敞開，并且一旦所述適配器(7)設置在基座元件(2)內部，所述管狀下段平行于所述基座元件(2)延伸。

3.根據權利要求2所述的系統(1)，其中所述適配器(7)的下段(7A)的橫截面與所述基座元件(2)的橫截面形狀相對應。

4.根據前述權利要求中任一項所述的系統(1)，其中在基座元件(2)的趾部(8)處或附近，基座元件的內壁設置有用于適配器(7)的支承件(9)。

5.根據權利要求4所述的系統(1)，其中所述支承件包括從基座元件(2)的內壁伸出的肩部(9)。

6.根據權利要求4或5所述的系統(1)，其中在適配器安放于支承件(9)上的位置處，所述適配器(7)的內徑不同于支承件(9)的內徑，從而在組件(2、7)的內壁中提供臺階。

7.一種適用于根據前述權利要求中任一項所述的系統(1)中的適配器(7)，包括要由管狀基座元件(2)的內壁支承的管狀段(7A)。

8.根據前述權利要求中任一項所述的系統(1)或適配器(7)，其中所述適配器(7)包括過渡段(7B)，所述過渡段從管狀段(7A)的尺寸收縮到與要使用的砧(5)的尺寸相對應的尺寸。

9.根據權利要求8所述的系統(1)或適配器(7)，其中過渡段(7B)的斜度處于1∶5至1∶15的范圍中。

10.根據前述權利要求中任一項所述的系統(1)或適配器(7)，其中所述適配器(7)的外壁的至少部分設置有消聲材料。

11.一種通過液壓打樁機(4)在水下地基構造(3)中安裝具有敞開端部的管狀基座元件特別是(單)樁(2)的方法，其特征在于，

將適配器(7)置于管狀基座元件(2)內部，

在基座元件(2)的趾部(8)處或附近將適配器(7)聯接至基座元件的內壁，

將砧(5)置于適配器(7)之上，

將液壓打樁機(4)置于砧(5)之上，以及

通過經適配器(7)從砧(5)向基座元件(2)的趾部(8)傳遞能量而將基座元件(2)驅打入地面構造(3)中。

12.根據權利要求11所述的方法，其中砧(5)位于基座元件(2)內部。

13.根據權利要求12所述的方法，其中至少在部分驅打操作期間，將水從基座元件(2)移除以便使得砧(5)通過空氣與基座元件(2)的內壁分離。

14.根據權利要求12或13所述的方法，其中至少在部分驅打操作期間，適配器(7)的趾部位于地基中。

15.根據權利要求11-14中任一項所述的方法，其中通過相同的適配器(7)連續地安裝多個管狀基座元件(2)。