[發(fā)明專利]譜磁性微粒成像有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080045815.1 | 申請日: | 2010-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN102573624A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | P·L·E·M·帕芒斯;D·馬爾科夫 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/05 | 分類號: | A61B5/05 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁性 微粒 成像 | ||
1.一種造影劑,包括適用于磁性微粒成像(MPI)的至少兩種不同的示蹤劑材料,其中,所述示蹤劑材料提供不同的MPI譜響應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的造影劑,其中,所述至少兩種不同的示蹤劑材料中的至少一種包含在醫(yī)學(xué)裝置中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的造影劑,其中,所述醫(yī)學(xué)裝置是從包括植入物、膠囊、片劑和醫(yī)學(xué)工具的組中選擇的。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的造影劑,其中,所述至少兩種不同的示蹤劑材料中的至少一種特異性地定位在或結(jié)合到特定材料,優(yōu)選定位在或結(jié)合到特定組織。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的造影劑,其中,所述至少兩種不同的示蹤劑材料是微粒形式的,并且所述至少兩種不同的示蹤劑材料的平均微粒尺寸相差至少10nm。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的造影劑,其中,所述至少兩種波譜不同的示蹤劑材料中的至少一種的MPI譜與所述至少兩種波譜不同的示蹤劑材料中的其他示蹤劑材料的MPI譜相比,呈現(xiàn)出在三倍噪聲水平以上的至少3個或至少5個或至少15個或至少33個額外的諧波。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的造影劑,其中,所述至少兩種不同的示蹤劑材料中的至少一種是氧化鐵材料,優(yōu)選是微粒氧化鐵材料。
8.將根據(jù)權(quán)利要求1到7中的任一項(xiàng)所述的造影劑用于對通過提供不同的MPI譜響應(yīng)的至少兩種示蹤劑材料進(jìn)行造影的不同材料或?qū)ο筮M(jìn)行可視化或區(qū)分。
9.一種通過磁性微粒成像(MPI)在至少兩種不同的示蹤劑材料之間進(jìn)行區(qū)分的方法,其中,利用提供不同的MPI譜響應(yīng)的至少兩種示蹤劑材料執(zhí)行磁性微粒成像過程。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中,所述方法至少包括如下步驟:
(i)提供所述至少兩種不同的示蹤劑材料;
(ii)向?qū)ο筮f送所述示蹤劑材料;
(iii)掃描所述對象以采集信號
(iv)采集針對每種示蹤劑材料X的系統(tǒng)函數(shù)以及
(v)重建圖像。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中,步驟(v)涉及將相應(yīng)的系統(tǒng)函數(shù)組合到單個矩陣中并將這一矩陣倒置以獲得
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的方法,其中,步驟(v)涉及利用如下方程確定所述局部濃度分布:
其中,是矩陣,其組合了在所述對象中檢測到的相應(yīng)示蹤劑材料X的所有不同局部濃度分布
13.根據(jù)權(quán)利要求9到12所述的方法,其中,將所述至少兩種不同的示蹤劑材料包括在根據(jù)權(quán)利要求1到7中的任一項(xiàng)所述的造影劑中。
14.一種存儲有程序單元的計算機(jī)可讀介質(zhì),所述程序單元在由處理單元執(zhí)行時,適于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求9到13中的任一項(xiàng)所述的方法。
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