[發明專利]具有至少兩鏡面的反射鏡的制造方法、用于微光刻的投射曝光裝置的反射鏡及投射曝光裝置

有效

• 申請號: 201080045368.X
• 申請日: 2010-07-30
• 公開（公告）號: CN102725673A
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發明（設計）人: J.赫茨勒;R.米勒;W.辛格
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G02B13/14
• 分類號: G02B13/14;G02B17/06;G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種用于微光刻的投射曝光裝置的反射鏡，所述微光刻用于感光材料的結構化曝光，其中

所述反射鏡(M)具有基板本體(B)、第一鏡面(S)和第二鏡面(S’)；

所述第一鏡面(S)形成于所述基板本體(B)的第一側(VS)上；

所述第二鏡面(S’)形成于所述基板本體(B)的第二側(RS)上，所述第二側不同于所述基板本體(B)的所述第一側；以及

所述基板本體(B)由玻璃陶瓷材料制成。

2.一種用于微光刻的投射曝光裝置的反射鏡，所述微光刻用于感光材料的結構化曝光，其中

所述反射鏡(M)具有基板本體(B)、第一鏡面(S)和第二鏡面(S’)；

所述第一鏡面(S)形成于所述基板本體(B)的第一側(VS)上；

所述第二鏡面(S’)形成于所述基板本體(B)的第二側(RS)上，所述第二側不同于所述基板本體(B)的所述第一側；以及

所述基板本體(B)具有折射率，所述折射率在所述基板本體的體積內變化達至少1ppm。

3.如權利要求2所述的反射鏡，其中所述基板本體的所述折射率在所述基板本體的體積內變化達至少10ppm。

4.一種用于微光刻的投射曝光裝置的反射鏡，所述微光刻用于感光材料的結構化曝光，其中

所述反射鏡(M)具有基板本體(B)、第一鏡面(S)和第二鏡面(S’)；

所述第一鏡面(S)形成于所述基板本體(B)的第一側(VS)上；

所述第二鏡面(S’)形成于所述基板本體(B)的第二側(RS)上，所述第二側不同于所述基板本體(B)的所述第一側；以及

所述反射鏡(M)具有至少一個反射輔助表面(HF1，HF2，HF3)。

5.如權利要求4所述的反射鏡，其中所述輔助表面(HF1，HF2，HF3)反射無助于曝光所述感光材料的光。

6.如權利要求4和5中任一項所述的反射鏡，其中所述輔助表面(HF1，HF2，HF3)至少在若干區域中實施為球面。

7.如權利要求4至6中任一項所述的反射鏡，其中所述輔助表面(HF1，HF2，HF3)實施為一基準，所述第一鏡面(S)的一希望位置和所述第二鏡面(S’)的一希望位置相對于所述基準而被預定義。

8.如權利要求1至3中任一項所述的反射鏡，其中為所述第二鏡面預定義相對于所述第一鏡面的一希望位置。

9.如權利要求7和8中任一項所述的反射鏡，其中所述第一鏡面(S)和/或所述第二鏡面(S’)具有一實際位置，其與所述希望位置相差最多100nm的位移距離和最多100nrad的旋轉角。

10.如前述權利要求中任一項所述的反射鏡，其中所述第一鏡面(S)和所述第二鏡面(S’)反射有助于曝光所述感光材料且波長小于100nm的光。

11.如前述權利要求中任一項所述的反射鏡，其中所述基板本體(B)的所述第一側(VS)實施為前側，且所述基板本體(B)的所述第二側(RS)實施為背對所述前側的后側。

12.如前述權利要求中任一項所述的反射鏡，其中所述第一鏡面(S)和所述第二鏡面(S’)對于垂直入射的曝光光分別具有至少20％的反射率。

13.如前述權利要求中任一項所述的反射鏡，其中所述第一鏡面(S)和所述第二鏡面(S’)彼此相隔一區域，所述區域對于垂直入射的曝光光具有小于20％的反射率。

14.如前述權利要求中任一項所述的反射鏡，其中所述第一鏡面(S)具有第一局部區域且所述第二鏡面(S’)具有第二局部區域，使得在所述第一局部區域反射的任何光束均不與在所述第二局部區域反射的光束相交。

15.如前述權利要求中任一項所述的反射鏡，其中所述第一鏡面(S)和/或所述第二鏡面(S’)具有一曲率。

16.如前述權利要求中任一項所述的反射鏡，其中有助于曝光所述感光材料的光，在于所述第一鏡面(S)處反射后，在其照射于所述第二鏡面(S’)上前反射至少兩次。

17.一種用于微光刻的投射曝光裝置，所述微光刻用于感光材料的結構化曝光，其中所述投射曝光裝置具有至少一個根據前述權利要求中任一項所述的反射鏡(M)。