[發明專利]帶有同時變量的像差校正的光學器件有效
| 申請號： | 201080044115.0 | 申請日： | 2010-08-16 |
| 公開（公告）號： | CN102549478A | 公開（公告）日： | 2012-07-04 |
| 發明（設計）人： | A·N·西蒙諾夫;M·C·羅姆巴赫 | 申請（專利權）人： | 愛克透鏡國際公司 |
| 主分類號： | G02B27/64 | 分類號： | G02B27/64;G02B27/00;G02B3/02;G11B3/02;G11B7/00;F24J1/00 |
| 代理公司： | 北京中創陽光知識產權代理有限責任公司 11003 | 代理人： | 尹振啟 |
| 地址： | 荷蘭*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 帶有 同時 變量 校正 光學 器件 | ||
1.光學系統，包括至少兩個光學元件，其中的至少一個相對于其他在垂直于該光學系統的光軸方向是可移動的，其特征在于，光學元件的組合適于同時校正至少兩個不同階的可變像差，其校正的程度取決于該些光學元件的相對位置。
2.根據權利要求1的光學系統，其特征在于，這些光學元件的至少兩個光學表面具有根據
3.根據權利要求1的光學系統，其特征在于，這些光學元件的至少三個光學表面具有根據
4.根據權利要求1-3的光學系統，包括至少兩個用于散焦像差的可變校正得光學表面子件，其特征在于，其具有至少兩個附加的光學表面子件以用于對至少一個其他的光學像差的同時可變校正。
5.根據權利要求4的光學系統，具有至少兩個根據的光學表面子件以用于散焦像差的可變校正，其特征在于，其具有至少兩個附加的光學表面子件以用于對至少一個其他的光學像差的同時可變校正。
6.根據權利要求1-3的光學系統，包括至少兩個光學表面子件以用于對傾斜/偏斜像差的可變校正，其特征在于，其具有至少兩個附加的光學表面子件以用于對至少一個其他的光學像差的同時可變校正。
7.根據權利要求1-3的光學系統，其特征在于，其具有至少兩個光學表面子件以用于變化至少一個立方項的幅度并結合附加的光學表面子件以用于對至少一個、其他的光學像差的同時可變校正。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于愛克透鏡國際公司，未經愛克透鏡國際公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080044115.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
